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半导体元件及其制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201710863671.4
申请日
:
2017-09-22
公开(公告)号
:
CN108807661B
公开(公告)日
:
2018-11-13
发明(设计)人
:
陈达
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾台中市大雅区科雅一路8号
IPC主分类号
:
H01L4308
IPC分类号
:
H01L4312
G11C1116
代理机构
:
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人
:
马雯雯;臧建明
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-10-22
授权
授权
2018-12-07
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 43/08 申请日:20170922
2018-11-13
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体元件及其制造方法
[P].
杨进盛
论文数:
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0
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杨进盛
.
中国专利
:CN100479162C
,2007-10-31
[2]
半导体元件及其制造方法
[P].
徐国基
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徐国基
;
曾国权
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曾国权
;
陈宗毅
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陈宗毅
;
沈建宇
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沈建宇
;
陈椿瑶
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陈椿瑶
;
李祥帆
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李祥帆
.
中国专利
:CN100517718C
,2006-01-25
[3]
半导体元件及其制造方法
[P].
陈文吉
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陈文吉
;
陈东波
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陈东波
;
艾世强
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艾世强
.
中国专利
:CN101005066A
,2007-07-25
[4]
半导体元件及其制造方法
[P].
王温壬
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机构:
联华电子股份有限公司
联华电子股份有限公司
王温壬
;
叶宇寰
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机构:
联华电子股份有限公司
联华电子股份有限公司
叶宇寰
;
王泉富
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机构:
联华电子股份有限公司
联华电子股份有限公司
王泉富
.
中国专利
:CN119767681A
,2025-04-04
[5]
半导体元件及其制造方法
[P].
谢朝景
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谢朝景
;
张俊杰
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张俊杰
;
洪宗佑
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洪宗佑
.
中国专利
:CN101170066A
,2008-04-30
[6]
半导体元件及其制造方法
[P].
洪铭钦
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洪铭钦
;
林威廷
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林威廷
;
涂峻豪
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涂峻豪
;
陈嘉祥
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陈嘉祥
.
中国专利
:CN102097324A
,2011-06-15
[7]
半导体元件及其制造方法
[P].
山崎舜平
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山崎舜平
;
坂田淳一郎
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坂田淳一郎
;
宫永昭治
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宫永昭治
;
坂仓真之
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坂仓真之
;
肥塚纯一
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肥塚纯一
;
丸山哲纪
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丸山哲纪
;
井本裕己
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井本裕己
.
中国专利
:CN104934483B
,2015-09-23
[8]
半导体元件及其制造方法
[P].
张志豪
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张志豪
;
莫亦先
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莫亦先
;
郭文晖
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郭文晖
.
中国专利
:CN107068761B
,2017-08-18
[9]
半导体元件及其制造方法
[P].
庄达人
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机构:
南亚科技股份有限公司
南亚科技股份有限公司
庄达人
;
谢品秀
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机构:
南亚科技股份有限公司
南亚科技股份有限公司
谢品秀
;
孙志忠
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机构:
南亚科技股份有限公司
南亚科技股份有限公司
孙志忠
.
中国专利
:CN112563275B
,2024-11-26
[10]
半导体元件及其制造方法
[P].
陈忠义
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陈忠义
;
关欣
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关欣
;
陈枝城
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陈枝城
;
叶任贤
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叶任贤
;
张启宣
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张启宣
;
刘俊秀
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刘俊秀
;
宋自强
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宋自强
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刘家玮
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刘家玮
;
张介亭
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张介亭
.
中国专利
:CN1797786A
,2006-07-05
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