CMP设备研磨头清洗装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200710094260.X

申请日：

2007-11-22

公开(公告)号：

CN101439494A

公开(公告)日：

2009-05-27

发明(设计)人：

祝志敏瞿治军

申请人：

申请人地址：

201206上海市浦东新区川桥路1188号

IPC主分类号：

B24B3704

IPC分类号：

B24B5500 H01L21304

代理机构：

上海浦一知识产权代理有限公司

代理人：

周赤

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-02-09	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101066680001 IPC(主分类):B24B 37/04 专利申请号:200710094260X 公开日:20090527
2009-07-22	实质审查的生效	实质审查的生效
2009-05-27	公开	公开

共 50 条

[1]

研磨头清洗装置、研磨设备及清洗方法 [P].

丁弋 ;

朱也方 .

中国专利 :CN104308720A ,2015-01-28

[2]

研磨头清洗装置 [P].

倪震威 ;

马成斌 ;

季文明 ;

蒋策策 ;

方瑞鸿 .

中国专利 :CN112371614A ,2021-02-19

[3]

研磨头清洗装置 [P].

黄汇丰 ;

蒋德念 ;

赵振伟 .

中国专利 :CN209425253U ,2019-09-24

[4]

研磨头清洗装置和化学机械研磨设备 [P].

董兵超 .

中国专利 :CN203887686U ,2014-10-22

[5]

研磨头保湿清洗装置 [P].

左少杰 ;

熊世伟 ;

王怀锋 ;

余文军 ;

曹开玮 .

中国专利 :CN201856166U ,2011-06-08

[6]

研磨头的清洗装置 [P].

刘国平 ;

房现飞 ;

高志强 ;

李宁 .

中国专利 :CN101121247A ,2008-02-13

[7]

研磨头组件的清洗装置以及化学机械研磨设备 [P].

曹开玮 ;

詹明松 ;

王怀锋 ;

余文军 .

中国专利 :CN201559124U ,2010-08-25

[8]

具有自冷却功能的研磨头及CMP设备 [P].

戴豪 ;

刘福强 ;

周庆亚 ;

梁同帅 ;

王占想 ;

于然 ;

刘家成 .

中国专利 :CN120680429A ,2025-09-23

[9]

化学机械研磨设备研磨头的清洗方法 [P].

陈增祥 ;

杨波 ;

王亦磊 ;

贾广森 .

中国专利 :CN101456161A ,2009-06-17

[10]

一种半导体设备研磨头装载体清洗装置 [P].

薛弘宇 ;

陈开清 ;

刘兴明 ;

程阳 ;

周建国 .

中国专利 :CN213316568U ,2021-06-01

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