研磨头的清洗装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610030021.3

申请日：

2006-08-11

公开(公告)号：

CN101121247A

公开(公告)日：

2008-02-13

发明(设计)人：

刘国平房现飞高志强李宁

申请人：

申请人地址：

201203上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

B24B2902

IPC分类号：

H01L21304 B24B5500

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：

逯长明

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2009-01-07	授权	授权
2011-12-28	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101249314140 IPC(主分类):H01L 21/304 专利号:ZL2006100300213 变更事项:专利权人变更前权利人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司变更后权利人:中芯国际集成电路制造(上海)有限公司变更事项:地址变更前权利人:201203 上海市浦东新区张江路18号变更后权利人:201203 上海市浦东新区张江路18号变更事项:共同专利权人变更前权利人:无变更后权利人:中芯国际集成电路制造(北京)有限公司登记生效日:20111116
2019-07-26	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/304 申请日:20060811 授权公告日:20090107 终止日期:20180811
2008-04-09	实质审查的生效	实质审查的生效
2008-02-13	公开	公开

共 50 条

[1]

研磨头组件的清洗装置以及化学机械研磨设备 [P].

曹开玮 ;

詹明松 ;

王怀锋 ;

余文军 .

中国专利 :CN201559124U ,2010-08-25

[2]

研磨头清洗装置 [P].

倪震威 ;

马成斌 ;

季文明 ;

蒋策策 ;

方瑞鸿 .

中国专利 :CN112371614A ,2021-02-19

[3]

研磨头清洗装置 [P].

黄汇丰 ;

蒋德念 ;

赵振伟 .

中国专利 :CN209425253U ,2019-09-24

[4]

研磨头保湿清洗装置 [P].

左少杰 ;

熊世伟 ;

王怀锋 ;

余文军 ;

曹开玮 .

中国专利 :CN201856166U ,2011-06-08

[5]

研磨头清洗装置、研磨设备及清洗方法 [P].

丁弋 ;

朱也方 .

中国专利 :CN104308720A ,2015-01-28

[6]

CMP设备研磨头清洗装置 [P].

祝志敏 ;

瞿治军 .

中国专利 :CN101439494A ,2009-05-27

[7]

研磨头清洗装置和化学机械研磨设备 [P].

董兵超 .

中国专利 :CN203887686U ,2014-10-22

[8]

化学机械研磨工艺的研磨头清洗方法 [P].

陈慧新 ;

李松 ;

王大帮 ;

宋振伟 ;

张守龙 .

中国专利 :CN112476231B ,2021-03-12

[9]

晶元研磨装置的研磨头 [P].

孙准晧 .

中国专利 :CN206662962U ,2017-11-24

[10]

化学机械研磨装置及清洗研磨垫、研磨头的方法 [P].

王怀峰 ;

张伟光 ;

党国锋 .

中国专利 :CN101357450A ,2009-02-04

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