研磨头清洗装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011120474.1

申请日：

2020-10-19

公开(公告)号：

CN112371614A

公开(公告)日：

2021-02-19

发明(设计)人：

倪震威马成斌季文明蒋策策方瑞鸿

申请人：

申请人地址：

201306 上海市浦东新区泥城镇云水路1000号

IPC主分类号：

B08B302

IPC分类号：

B08B308 B08B1300 B24B3710 B24B3734 B24B4900 B24B5506

代理机构：

上海思捷知识产权代理有限公司 31295

代理人：

王宏婧

法律状态：

发明专利申请公布后的驳回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2023-01-20	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):B08B 3/02 申请公布日:20210219
2021-02-19	公开	公开
2021-03-09	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):B08B 3/02 申请日:20201019

共 50 条

[1]

研磨头清洗装置 [P].

黄汇丰 ;

蒋德念 ;

赵振伟 .

中国专利 :CN209425253U ,2019-09-24

[2]

研磨头清洗装置和化学机械研磨设备 [P].

董兵超 .

中国专利 :CN203887686U ,2014-10-22

[3]

研磨头保湿清洗装置 [P].

左少杰 ;

熊世伟 ;

王怀锋 ;

余文军 ;

曹开玮 .

中国专利 :CN201856166U ,2011-06-08

[4]

研磨头清洗装置、研磨设备及清洗方法 [P].

丁弋 ;

朱也方 .

中国专利 :CN104308720A ,2015-01-28

[5]

研磨头的清洗装置 [P].

刘国平 ;

房现飞 ;

高志强 ;

李宁 .

中国专利 :CN101121247A ,2008-02-13

[6]

研磨头组件的清洗装置以及化学机械研磨设备 [P].

曹开玮 ;

詹明松 ;

王怀锋 ;

余文军 .

中国专利 :CN201559124U ,2010-08-25

[7]

CMP设备研磨头清洗装置 [P].

祝志敏 ;

瞿治军 .

中国专利 :CN101439494A ,2009-05-27

[8]

化学机械研磨工艺的研磨头清洗方法 [P].

陈慧新 ;

李松 ;

王大帮 ;

宋振伟 ;

张守龙 .

中国专利 :CN112476231B ,2021-03-12

[9]

一种晶圆研磨头清洗装置及清洗方法 [P].

罗方 ;

张传民 ;

文静 ;

林军 ;

吴科 .

中国专利 :CN106141905A ,2016-11-23

[10]

研磨液清洗装置 [P].

刘宇龙 ;

李春 ;

李宁 ;

董兵超 .

中国专利 :CN201046545Y ,2008-04-16

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