无应力抛光装置及抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210369944.7

申请日：

2012-09-27

公开(公告)号：

CN103692293B

公开(公告)日：

2014-04-02

发明(设计)人：

王坚金一诺王晖

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江高科技园区蔡伦路1690号4幢

IPC主分类号：

B24B100

IPC分类号：

H01L21304

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

陆勍

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-09-30	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101627608069 IPC(主分类):B24B 1/00 专利申请号:2012103699447 申请日:20120927
2020-03-20	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):B24B 1/00 变更事项:专利权人变更前:盛美半导体设备(上海)有限公司变更后:盛美半导体设备(上海)股份有限公司变更事项:地址变更前:201203 上海市浦东新区张江高科技园区蔡伦路1690号4幢变更后:201203 上海市浦东新区自由贸易试验区蔡伦路1690号第4幢
2014-04-02	公开	公开
2018-01-16	授权	授权

共 50 条

[1]

无应力抛光集成装置 [P].

王坚 ;

金一诺 ;

王晖 .

中国专利 :CN104097118A ,2014-10-15

[2]

电化学抛光中的支架抛光装置及抛光方法 [P].

钟生平 ;

高洪亮 ;

赵迎红 ;

刘睿 .

中国专利 :CN102251268B ,2011-11-23

[3]

支架抛光装置和支架抛光方法 [P].

钟生平 ;

高洪亮 ;

赵迎红 ;

刘睿 .

中国专利 :CN103320846A ,2013-09-25

[4]

无应力电化学抛光方法 [P].

代迎伟 ;

金一诺 ;

王坚 ;

王晖 .

中国专利 :CN106245108B ,2016-12-21

[5]

低应力纵向抛光装置及其抛光方法 [P].

支有冉 ;

周玉华 ;

马丽娟 .

中国专利 :CN112548818A ,2021-03-26

[6]

一种无应力抛光装置 [P].

金一诺 ;

代迎伟 ;

王坚 ;

王晖 .

中国专利 :CN107305845A ,2017-10-31

[7]

晶圆抛光装置及抛光方法 [P].

具滋贤 ;

张月 ;

杨涛 ;

卢一泓 ;

田光辉 .

中国专利 :CN114851057A ,2022-08-05

[8]

抛光垫、抛光装置及抛光方法 [P].

涩木俊一 .

中国专利 :CN1628374A ,2005-06-15

[9]

抛光装置及抛光方法 [P].

胡自化 ;

李鑫浩 ;

吴士成 ;

封龙龙 ;

秦长江 ;

陈小告 .

中国专利 :CN115488751A ,2022-12-20

[10]

抛光方法及抛光装置 [P].

季明华 .

中国专利 :CN118769029A ,2024-10-15

← 1 2 3 4 5 →