内冷却研磨抛光装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201320315213.4

申请日：

2013-06-04

公开(公告)号：

CN203282333U

公开(公告)日：

2013-11-13

发明(设计)人：

王丽丽韦孝平梁翠英

申请人：

申请人地址：

528308 广东省佛山市顺德区伦教街道南苑西路倾城上筑9座202

IPC主分类号：

B24B3734

IPC分类号：

B24B3716

代理机构：

代理人：

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-07-21	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101736049232 IPC(主分类):B24B 37/34 专利号:ZL2013203152134 申请日:20130604 授权公告日:20131113 终止日期:20160604
2013-11-13	授权	授权

共 50 条

[1]

带循环水冷装置的研磨抛光盘 [P].

方建东 ;

黄小卫 ;

杨宁 ;

孙晓晓 .

中国专利 :CN202726714U ,2013-02-13

[2]

研磨抛光夹具及研磨抛光装置 [P].

龙登武 ;

俞江 .

中国专利 :CN204546250U ,2015-08-12

[3]

蓝宝石研磨抛光装置 [P].

袁保军 ;

贺贤汉 ;

王宇 .

中国专利 :CN205310029U ,2016-06-15

[4]

研磨抛光装置 [P].

孔晶 ;

王永宁 ;

吴新 ;

陈麟 .

中国专利 :CN205129602U ,2016-04-06

[5]

研磨抛光装置 [P].

谢涛 ;

罗友明 ;

吴小春 .

中国专利 :CN207239867U ,2018-04-17

[6]

研磨抛光装置 [P].

刘政文 .

中国专利 :CN205904834U ,2017-01-25

[7]

研磨抛光装置 [P].

李强 .

中国专利 :CN204123252U ,2015-01-28

[8]

上下盘冷却系统及研磨抛光装置 [P].

希尔维斯特·本杰明 ;

孔满红 ;

希尔维斯特·驹亮 ;

希尔维斯特·昂睿 .

中国专利 :CN207027255U ,2018-02-23

[9]

一种研磨抛光装置 [P].

王公友 .

中国专利 :CN209850621U ,2019-12-27

[10]

晶片研磨抛光装置 [P].

唐坤 ;

陈鑫 ;

高艳庄 .

中国专利 :CN208913851U ,2019-05-31

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