研磨抛光装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201620290373.1

申请日：

2016-04-08

公开(公告)号：

CN205904834U

公开(公告)日：

2017-01-25

发明(设计)人：

刘政文

申请人：

申请人地址：

518100 广东省深圳市宝安区松岗街道办罗田村第三工业区永昌工业园F栋1楼

IPC主分类号：

B24B2700

IPC分类号：

B24B4106 B24B4104

代理机构：

深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280

代理人：

何青瓦

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-03-26	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B24B 27/00 申请日:20160408 授权公告日:20170125 终止日期:20180408
2017-01-25	授权	授权

共 50 条

[1]

晶片研磨抛光装置 [P].

唐坤 ;

陈鑫 ;

高艳庄 .

中国专利 :CN208913851U ,2019-05-31

[2]

研磨抛光夹具及研磨抛光装置 [P].

龙登武 ;

俞江 .

中国专利 :CN204546250U ,2015-08-12

[3]

研磨抛光装置 [P].

孔晶 ;

王永宁 ;

吴新 ;

陈麟 .

中国专利 :CN205129602U ,2016-04-06

[4]

研磨抛光装置 [P].

谢涛 ;

罗友明 ;

吴小春 .

中国专利 :CN207239867U ,2018-04-17

[5]

研磨抛光装置及研磨抛光系统 [P].

周群飞 ;

王缔 .

中国专利 :CN208663456U ,2019-03-29

[6]

研磨抛光装置及研磨抛光系统 [P].

周群飞 ;

王缔 .

中国专利 :CN108608313B ,2024-11-01

[7]

研磨抛光装置及研磨抛光系统 [P].

周群飞 ;

王缔 .

中国专利 :CN108608313A ,2018-10-02

[8]

一种研磨抛光装置 [P].

刘高平 .

中国专利 :CN205551649U ,2016-09-07

[9]

晶片研磨抛光装置 [P].

唐坤 ;

陈鑫 ;

高艳庄 .

中国专利 :CN109015337A ,2018-12-18

[10]

自动研磨抛光装置 [P].

倪亮 .

中国专利 :CN202622546U ,2012-12-26

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