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半导体元件及其制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201811257747.X
申请日
:
2018-10-26
公开(公告)号
:
CN109801968A
公开(公告)日
:
2019-05-24
发明(设计)人
:
郑志昌
朱馥钰
柳瑞兴
雷明达
黄士芬
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹市
IPC主分类号
:
H01L2978
IPC分类号
:
H01L29423
H01L2906
H01L21336
代理机构
:
隆天知识产权代理有限公司 72003
代理人
:
张福根;冯志云
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-05-24
公开
公开
2019-06-18
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/78 申请日:20181026
2021-10-08
授权
授权
共 50 条
[1]
半导体元件及其制造方法
[P].
潘昇良
论文数:
0
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0
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潘昇良
;
陈泳字
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陈泳字
;
李中傑
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李中傑
;
徐永昌
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徐永昌
;
洪嘉阳
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洪嘉阳
;
王柏荃
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王柏荃
;
陈冠亘
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陈冠亘
;
林焕哲
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林焕哲
.
中国专利
:CN114864500A
,2022-08-05
[2]
半导体元件及其制造方法
[P].
庄达人
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机构:
南亚科技股份有限公司
南亚科技股份有限公司
庄达人
;
谢品秀
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机构:
南亚科技股份有限公司
南亚科技股份有限公司
谢品秀
;
孙志忠
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0
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机构:
南亚科技股份有限公司
南亚科技股份有限公司
孙志忠
.
中国专利
:CN112563275B
,2024-11-26
[3]
半导体元件及其制造方法
[P].
内田正雄
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内田正雄
.
中国专利
:CN110120428A
,2019-08-13
[4]
半导体元件及其制造方法
[P].
黄仲麟
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黄仲麟
.
中国专利
:CN111162075A
,2020-05-15
[5]
半导体元件及其制造方法
[P].
郭进成
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郭进成
;
郑斌宏
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郑斌宏
;
洪正辉
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洪正辉
.
中国专利
:CN102496570A
,2012-06-13
[6]
半导体元件及其制造方法
[P].
马丁·克里斯多福·霍兰德
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0
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
马丁·克里斯多福·霍兰德
;
布莱戴恩·杜瑞兹
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0
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
布莱戴恩·杜瑞兹
;
马库斯·琼斯·亨利库斯·范达尔
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
马库斯·琼斯·亨利库斯·范达尔
;
奥野泰利
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
奥野泰利
.
中国专利
:CN112447827B
,2025-07-29
[7]
半导体元件及其制造方法
[P].
马丁·克里斯多福·霍兰德
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马丁·克里斯多福·霍兰德
;
布莱戴恩·杜瑞兹
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布莱戴恩·杜瑞兹
;
马库斯·琼斯·亨利库斯·范达尔
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马库斯·琼斯·亨利库斯·范达尔
;
奥野泰利
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奥野泰利
.
中国专利
:CN112447827A
,2021-03-05
[8]
半导体元件及其制造方法
[P].
斋藤元章
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斋藤元章
;
安达隆郎
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安达隆郎
.
中国专利
:CN107924869B
,2018-04-17
[9]
半导体元件及其制造方法
[P].
庄达人
论文数:
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庄达人
;
谢品秀
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谢品秀
;
孙志忠
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孙志忠
.
中国专利
:CN112563275A
,2021-03-26
[10]
半导体元件及其制造方法
[P].
内田正雄
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内田正雄
;
田中康太郎
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田中康太郎
.
中国专利
:CN103180959B
,2013-06-26
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