一种靶材溅射装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201520722250.6

申请日：

2015-09-17

公开(公告)号：

CN204939603U

公开(公告)日：

2016-01-06

发明(设计)人：

魏钰

申请人：

申请人地址：

100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291

代理人：

任嘉文

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-08-26	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20150917 授权公告日:20160106 终止日期:20210917
2016-01-06	授权	授权

共 50 条

[1]

一种靶材溅射装置及其溅射靶材的方法 [P].

魏钰 .

中国专利 :CN105112871A ,2015-12-02

[2]

靶材溅射装置 [P].

温艳玲 ;

焦晓希 ;

张学智 .

中国专利 :CN212955323U ,2021-04-13

[3]

一种靶材溅射装置 [P].

温质康 ;

乔小平 ;

苏智昱 .

中国专利 :CN215103503U ,2021-12-10

[4]

靶材溅射装置 [P].

秦文 .

中国专利 :CN110468380A ,2019-11-19

[5]

一种靶材溅射深度测试装置 [P].

姚力军 ;

潘杰 ;

王学泽 ;

呼雷 .

中国专利 :CN210321557U ,2020-04-14

[6]

一种靶材溅射沟道的测量装置 [P].

梁国泰 ;

黄宇彬 ;

童培云 ;

朱刘 ;

何坤鹏 .

中国专利 :CN215572621U ,2022-01-18

[7]

一种靶材溅射用聚焦环 [P].

姚力军 ;

潘杰 ;

王学泽 ;

马松 ;

吴浩 .

中国专利 :CN220413506U ,2024-01-30

[8]

一种靶材、磁控溅射装置及溅射方法、溅射薄膜 [P].

苏同上 ;

王东方 ;

王庆贺 ;

闫梁臣 .

中国专利 :CN109161863A ,2019-01-08

[9]

一种靶材溅射镀膜真空腔稳压装置 [P].

杨海成 ;

米县稳 .

中国专利 :CN211897103U ,2020-11-10

[10]

一种靶材真空溅射移位装置 [P].

谢青华 ;

夏尚德 ;

徐龙海 .

中国专利 :CN202187059U ,2012-04-11

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