一种靶材真空溅射移位装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201120272879.7

申请日：

2011-07-29

公开(公告)号：

CN202187059U

公开(公告)日：

2012-04-11

发明(设计)人：

谢青华夏尚德徐龙海

申请人：

申请人地址：

518115 广东省深圳市龙岗区横岗镇大康福田村东海科技工业区15号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

广东广和律师事务所 44298

代理人：

刘敏

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-04-11	授权	授权
2017-09-15	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101747564592 IPC(主分类):C23C 14/35 专利号:ZL2011202728797 申请日:20110729 授权公告日:20120411 终止日期:20160729

共 50 条

[1]

一种真空溅射镀膜靶材 [P].

孔伟华 .

中国专利 :CN216237255U ,2022-04-08

[2]

一种真空溅射镀膜靶材 [P].

陈春玲 ;

黄威智 ;

方家芳 .

中国专利 :CN203683650U ,2014-07-02

[3]

一种真空溅射镀膜靶材 [P].

陈春玲 ;

黄威智 ;

方家芳 .

中国专利 :CN103668090A ,2014-03-26

[4]

一种真空溅射镀膜靶 [P].

张彬 ;

张金宝 .

中国专利 :CN223509944U ,2025-11-04

[5]

靶材溅射装置 [P].

温艳玲 ;

焦晓希 ;

张学智 .

中国专利 :CN212955323U ,2021-04-13

[6]

一种靶材溅射装置 [P].

温质康 ;

乔小平 ;

苏智昱 .

中国专利 :CN215103503U ,2021-12-10

[7]

一种靶材溅射装置 [P].

魏钰 .

中国专利 :CN204939603U ,2016-01-06

[8]

一种靶材溅射镀膜真空腔稳压装置 [P].

杨海成 ;

米县稳 .

中国专利 :CN211897103U ,2020-11-10

[9]

靶材结构及真空溅射设备 [P].

刘伟基 ;

冀鸣 ;

易洪波 ;

吴秋生 .

中国专利 :CN221398009U ,2024-07-23

[10]

一种金属靶材真空磁控溅射用焊接装置 [P].

曹兴民 .

中国专利 :CN217493129U ,2022-09-27

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