一种真空溅射镀膜靶材

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专利类型
实用新型
申请号
CN201420001631.0
申请日
2014-01-02
公开(公告)号
CN203683650U
公开(公告)日
2014-07-02
发明(设计)人
陈春玲 黄威智 方家芳
申请人
申请人地址
215300 江苏省苏州市昆山市吴淞江工业园区晨丰东路135号
IPC主分类号
C23C1434
IPC分类号
代理机构
南京纵横知识产权代理有限公司 32224
代理人
董建林;汪庆朋
法律状态
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
国省代码
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共 50 条
[1]
一种真空溅射镀膜靶材 [P]. 
孔伟华 .
中国专利 :CN216237255U ,2022-04-08
[2]
一种真空溅射镀膜靶材 [P]. 
陈春玲 ;
黄威智 ;
方家芳 .
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[3]
一种真空溅射镀膜靶 [P]. 
张彬 ;
张金宝 .
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[4]
一种靶材背面固定式平面靶和真空溅射镀膜设备 [P]. 
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[6]
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王克斌 ;
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[7]
一种真空溅射镀膜装置 [P]. 
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[8]
一种真空溅射镀膜装置 [P]. 
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[9]
一种真空溅射镀膜装置 [P]. 
胡兴微 ;
蒋玉东 .
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[10]
真空溅射镀膜设备 [P]. 
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