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一种靶材背面固定式平面靶和真空溅射镀膜设备
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202022854218.7
申请日
:
2020-12-01
公开(公告)号
:
CN214300328U
公开(公告)日
:
2021-09-28
发明(设计)人
:
汪选林
申请人
:
申请人地址
:
518000 广东省深圳市光明区马田街道马山头社区钟表基地森丰大厦101
IPC主分类号
:
C23C1435
IPC分类号
:
代理机构
:
北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616
代理人
:
鲍敬
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-09-28
授权
授权
共 50 条
[1]
一种真空溅射镀膜靶材
[P].
孔伟华
论文数:
0
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0
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0
孔伟华
.
中国专利
:CN216237255U
,2022-04-08
[2]
一种真空溅射镀膜靶材
[P].
陈春玲
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陈春玲
;
黄威智
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黄威智
;
方家芳
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方家芳
.
中国专利
:CN203683650U
,2014-07-02
[3]
一种真空溅射镀膜靶材
[P].
陈春玲
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陈春玲
;
黄威智
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黄威智
;
方家芳
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方家芳
.
中国专利
:CN103668090A
,2014-03-26
[4]
一种真空溅射镀膜靶
[P].
张彬
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机构:
遵化市富森钛金设备有限公司
遵化市富森钛金设备有限公司
张彬
;
张金宝
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机构:
遵化市富森钛金设备有限公司
遵化市富森钛金设备有限公司
张金宝
.
中国专利
:CN223509944U
,2025-11-04
[5]
一种溅射镀膜的靶材结构
[P].
闫都伦
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闫都伦
;
王克斌
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王克斌
;
吴细标
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吴细标
;
王旻杰
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王旻杰
;
唐贵民
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唐贵民
.
中国专利
:CN203976900U
,2014-12-03
[6]
用于磁控溅射平面靶镀膜设备的可调靶基距装置
[P].
刘高水
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刘高水
;
周志文
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周志文
;
李民英
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李民英
.
中国专利
:CN202558928U
,2012-11-28
[7]
一种靶材溅射镀膜真空腔稳压装置
[P].
杨海成
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杨海成
;
米县稳
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米县稳
.
中国专利
:CN211897103U
,2020-11-10
[8]
一种固定式炮靶
[P].
陈岱松
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陈岱松
.
中国专利
:CN216620828U
,2022-05-27
[9]
靶材结构及真空溅射设备
[P].
刘伟基
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机构:
佛山市博顿光电科技有限公司
佛山市博顿光电科技有限公司
刘伟基
;
冀鸣
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机构:
佛山市博顿光电科技有限公司
佛山市博顿光电科技有限公司
冀鸣
;
易洪波
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机构:
佛山市博顿光电科技有限公司
佛山市博顿光电科技有限公司
易洪波
;
吴秋生
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机构:
佛山市博顿光电科技有限公司
佛山市博顿光电科技有限公司
吴秋生
.
中国专利
:CN221398009U
,2024-07-23
[10]
一种靶材真空溅射移位装置
[P].
谢青华
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谢青华
;
夏尚德
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夏尚德
;
徐龙海
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徐龙海
.
中国专利
:CN202187059U
,2012-04-11
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