用于磁控溅射平面靶镀膜设备的可调靶基距装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201220016926.6

申请日：

2012-01-16

公开(公告)号：

CN202558928U

公开(公告)日：

2012-11-28

发明(设计)人：

刘高水周志文李民英

申请人：

申请人地址：

523718 广东省东莞市塘厦镇田心工业区

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

北京连城创新知识产权代理有限公司 11254

代理人：

刘伍堂

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-03-16	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101650479953 IPC(主分类):C23C 14/35 专利号:ZL2012200169266 申请日:20120116 授权公告日:20121128 终止日期:20150116
2012-11-28	授权	授权

共 50 条

[1]

用于磁控溅射平面靶镀膜设备的可调靶基距装置 [P].

刘高水 ;

周志文 ;

李民英 .

中国专利 :CN102517556A ,2012-06-27

[2]

磁控溅射圆柱靶及磁控溅射镀膜设备 [P].

罗金豪 ;

解传佳 ;

潘俊杰 ;

赵贤贵 .

中国专利 :CN222119368U ,2024-12-06

[3]

对磁控溅射中旋转靶材进行基距调整的装置 [P].

梁伟 ;

陈培专 ;

李仁龙 ;

魏昌华 ;

高翔 .

中国专利 :CN210176943U ,2020-03-24

[4]

磁控溅射镀膜用的靶材组成及磁控溅射镀膜装置 [P].

李长春 ;

蒙峻 ;

焦纪强 ;

罗成 ;

魏宁斐 ;

刘建龙 ;

姚鹏 .

中国专利 :CN121065643A ,2025-12-05

[5]

一种便于更换的镀膜磁控溅射平面靶 [P].

徐浩 ;

王慧明 ;

黄俊 ;

李伟 ;

魏玉飞 .

中国专利 :CN220579372U ,2024-03-12

[6]

镀膜靶材磁控溅射成型装置 [P].

李晨 ;

李洪亮 ;

董悦悦 ;

张乐 ;

张洪浩 ;

王金华 ;

魏聪 .

中国专利 :CN222861609U ,2025-05-13

[7]

磁控溅射平面靶材屏蔽罩 [P].

彭春超 ;

何保军 ;

赵跃林 ;

高文波 .

中国专利 :CN202989274U ,2013-06-12

[8]

一种靶磁控溅射镀膜机 [P].

宋永宾 ;

王鹏 ;

宋欣怡 .

中国专利 :CN118685744A ,2024-09-24

[9]

一种靶磁控溅射镀膜机 [P].

宋永宾 ;

王鹏 ;

宋欣怡 .

中国专利 :CN118685744B ,2025-03-21

[10]

磁控溅射圆柱靶的靶芯结构 [P].

万光辉 ;

梁君 ;

平杰 .

中国专利 :CN203807550U ,2014-09-03

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