磁控溅射圆柱靶的靶芯结构

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201420236523.1

申请日：

2014-05-09

公开(公告)号：

CN203807550U

公开(公告)日：

2014-09-03

发明(设计)人：

万光辉梁君平杰

申请人：

申请人地址：

253000 山东省德州市湖滨北路175号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

济南圣达知识产权代理有限公司 37221

代理人：

郑华清

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-09-03	授权	授权

共 50 条

[1]

磁控溅射圆柱靶 [P].

蔡新明 ;

柯伟 ;

吴旭林 ;

张化明 ;

韩文敏 .

中国专利 :CN202369634U ,2012-08-08

[2]

磁控溅射圆柱靶及磁控溅射镀膜设备 [P].

罗金豪 ;

解传佳 ;

潘俊杰 ;

赵贤贵 .

中国专利 :CN222119368U ,2024-12-06

[3]

一种磁控溅射圆柱靶 [P].

李建斌 ;

王智建 ;

张明贵 ;

陈革 ;

张好勇 ;

隗方基 ;

章其初 .

中国专利 :CN201206165Y ,2009-03-11

[4]

通过防护处理的磁控溅射圆柱靶 [P].

王智建 ;

陈志涛 ;

刘建民 ;

秦和军 ;

丁朋磊 ;

李雪峰 .

中国专利 :CN201309962Y ,2009-09-16

[5]

磁控溅射旋转靶 [P].

肖世文 .

中国专利 :CN203741407U ,2014-07-30

[6]

磁控溅射阴极靶材的密封结构 [P].

陈诚 ;

邵帅 ;

刘西宁 .

中国专利 :CN203080058U ,2013-07-24

[7]

一种新型靶管旋转磁控溅射圆柱靶 [P].

王宇 ;

张强 .

中国专利 :CN201545907U ,2010-08-11

[8]

磁控溅射的柱靶铁芯结构 [P].

张波 ;

章其初 ;

刘建超 ;

王智健 .

中国专利 :CN217104055U ,2022-08-02

[9]

一种新型磁控溅射圆柱靶 [P].

王宇 ;

张强 .

中国专利 :CN201778105U ,2011-03-30

[10]

磁控溅射旋转靶材 [P].

黄勇彪 ;

林文宝 .

中国专利 :CN204224696U ,2015-03-25

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