磁控溅射的柱靶铁芯结构

被引：0

申请号：

CN202220926624.6

申请日：

2022-04-20

公开(公告)号：

CN217104055U

公开(公告)日：

2022-08-02

发明(设计)人：

张波章其初刘建超王智健

申请人：

申请人地址：

213022 江苏省常州市新北区顺园路35号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

常州市华信天成专利代理事务所(普通合伙) 32294

代理人：

肖兴江

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-08-02	授权	授权

共 50 条

[1]

磁控溅射圆柱靶的靶芯结构 [P].

万光辉 ;

梁君 ;

平杰 .

中国专利 :CN203807550U ,2014-09-03

[2]

旋转靶柱型磁控溅射器 [P].

王德苗 ;

任高潮 .

中国专利 :CN2301452Y ,1998-12-23

[3]

磁控溅射旋转靶 [P].

肖世文 .

中国专利 :CN203741407U ,2014-07-30

[4]

磁控溅射圆柱靶 [P].

蔡新明 ;

柯伟 ;

吴旭林 ;

张化明 ;

韩文敏 .

中国专利 :CN202369634U ,2012-08-08

[5]

磁控溅射阴极靶材的密封结构 [P].

陈诚 ;

邵帅 ;

刘西宁 .

中国专利 :CN203080058U ,2013-07-24

[6]

磁控溅射圆柱靶及磁控溅射镀膜设备 [P].

罗金豪 ;

解传佳 ;

潘俊杰 ;

赵贤贵 .

中国专利 :CN222119368U ,2024-12-06

[7]

磁控溅射旋转靶材 [P].

黄勇彪 ;

林文宝 .

中国专利 :CN204224696U ,2015-03-25

[8]

一种靶材安装结构、磁控溅射设备及磁控溅射方法 [P].

卢静 .

中国专利 :CN112899627B ,2021-06-04

[9]

真空磁控溅射的旋转靶装置 [P].

廖荣新 ;

黄进高 ;

禤瑞彬 .

中国专利 :CN202181345U ,2012-04-04

[10]

磁控溅射用镶嵌靶材 [P].

宋爱谋 ;

钟小亮 .

中国专利 :CN204474747U ,2015-07-15

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