共 50 条
[1]
[2]
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
[9]
[10]
一种靶材安装结构、磁控溅射设备及磁控溅射方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202110058551.3
申请日：
2021-01-16
公开(公告)号：
CN112899627B
公开(公告)日：
2021-06-04
发明(设计)人：
卢静
申请人：
申请人地址：
400000 重庆市沙坪坝区陈家桥镇
IPC主分类号：
C23C1435
IPC分类号：
代理机构：
重庆志一加诚专利代理事务所(普通合伙) 50278
代理人：
邓波
法律状态：
公开
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-06-04 | 公开 | 公开 |
| 2022-09-27 | 授权 | 授权 |
| 2021-06-22 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20210116 |