一种磁控溅射靶材、磁控溅射靶及磁控溅射设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201620961698.8

申请日：

2016-08-26

公开(公告)号：

CN205934012U

公开(公告)日：

2017-02-08

发明(设计)人：

魏钰宋博韬成军刘宁

申请人：

申请人地址：

230011 安徽省合肥市新站区站前路99号南海大厦502室

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

北京中博世达专利商标代理有限公司 11274

代理人：

申健

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-02-08	授权	授权

共 50 条

[1]

磁控溅射靶材及磁控溅射装置 [P].

叶飞 ;

王金 ;

余义 .

中国专利 :CN223201906U ,2025-08-08

[2]

矩形平面磁控溅射靶材及磁控溅射靶装置 [P].

孔伟华 .

中国专利 :CN216192676U ,2022-04-05

[3]

磁控溅射靶材及磁控溅射装置 [P].

李晨光 .

中国专利 :CN204022932U ,2014-12-17

[4]

矩形平面磁控溅射靶材及磁控溅射靶装置 [P].

李晨光 .

中国专利 :CN203782228U ,2014-08-20

[5]

磁控溅射靶 [P].

王君久 ;

陈国华 ;

祝世国 .

中国专利 :CN202865323U ,2013-04-10

[6]

磁控溅射靶材 [P].

姚力军 ;

相原俊夫 ;

大岩一彦 ;

潘杰 ;

王学泽 ;

钟伟华 .

中国专利 :CN202576553U ,2012-12-05

[7]

磁控溅射靶材和磁控溅射装置 [P].

胡小波 .

中国专利 :CN110129755A ,2019-08-16

[8]

磁控溅射靶 [P].

周颖 ;

刘丽华 .

中国专利 :CN201634757U ,2010-11-17

[9]

磁控溅射靶 [P].

刘洋 ;

汪振南 ;

见东伟 ;

杨永雷 .

中国专利 :CN210104059U ,2020-02-21

[10]

一种磁控溅射靶与磁控溅射设备 [P].

陈岩 ;

杜晓健 ;

高博 .

中国专利 :CN202786406U ,2013-03-13

← 1 2 3 4 5 →