磁控溅射靶材

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201220226070.5

申请日：

2012-05-18

公开(公告)号：

CN202576553U

公开(公告)日：

2012-12-05

发明(设计)人：

姚力军相原俊夫大岩一彦潘杰王学泽钟伟华

申请人：

申请人地址：

315400 浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路198号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

骆苏华

法律状态：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-09-03	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101704869420 IPC(主分类):C23C 14/35 专利号:ZL2012202260705 变更事项:专利权人变更前:宁波江丰电子材料有限公司变更后:宁波江丰电子材料股份有限公司变更事项:地址变更前:315400 浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路198号变更后:315400 浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路198号
2012-12-05	授权	授权
2022-06-03	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20120518 授权公告日:20121205

共 50 条

[1]

磁控溅射靶材和磁控溅射装置 [P].

胡小波 .

中国专利 :CN110129755A ,2019-08-16

[2]

磁控溅射靶材及磁控溅射装置 [P].

李晨光 .

中国专利 :CN204022932U ,2014-12-17

[3]

磁控溅射靶材及磁控溅射装置 [P].

叶飞 ;

王金 ;

余义 .

中国专利 :CN223201906U ,2025-08-08

[4]

一种磁控溅射靶材、磁控溅射靶及磁控溅射设备 [P].

魏钰 ;

宋博韬 ;

成军 ;

刘宁 .

中国专利 :CN205934012U ,2017-02-08

[5]

矩形平面磁控溅射靶材及磁控溅射靶装置 [P].

李晨光 .

中国专利 :CN203782228U ,2014-08-20

[6]

矩形平面磁控溅射靶材及磁控溅射靶装置 [P].

孔伟华 .

中国专利 :CN216192676U ,2022-04-05

[7]

磁控溅射靶材护罩及磁控溅射卷绕镀膜设备 [P].

李晨光 ;

徐少东 .

中国专利 :CN103343322A ,2013-10-09

[8]

磁控溅射靶材护罩及磁控溅射卷绕镀膜设备 [P].

李晨光 ;

徐少东 .

中国专利 :CN203382815U ,2014-01-08

[9]

一种磁控溅射靶材 [P].

曹明刚 ;

张磊 ;

王静 ;

王鑫 ;

刘雪莲 ;

焦新宇 ;

金作林 .

中国专利 :CN213507170U ,2021-06-22

[10]

磁控溅射靶材保护套 [P].

臧世伟 .

中国专利 :CN220468119U ,2024-02-09

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