磁控溅射靶材护罩及磁控溅射卷绕镀膜设备

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专利类型
实用新型
申请号
CN201320390426.3
申请日
2013-07-02
公开(公告)号
CN203382815U
公开(公告)日
2014-01-08
发明(设计)人
李晨光 徐少东
申请人
申请人地址
330000 江西省南昌市南昌经济技术开发区黄家湖路
IPC主分类号
C23C1435
IPC分类号
代理机构
广州华进联合专利商标代理有限公司 44224
代理人
邓云鹏
法律状态
避免重复授权放弃专利权
国省代码
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共 50 条
[1]
磁控溅射靶材护罩及磁控溅射卷绕镀膜设备 [P]. 
李晨光 ;
徐少东 .
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一种磁控溅射靶材、磁控溅射靶及磁控溅射设备 [P]. 
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赵铭 .
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