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矩形平面磁控溅射靶材及磁控溅射靶装置
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201420197329.7
申请日：
2014-04-22
公开(公告)号：
CN203782228U
公开(公告)日：
2014-08-20
发明(设计)人：
李晨光
申请人：
申请人地址：
330013 江西省南昌市昌北经济开发区黄家湖西路欧菲光科技园
IPC主分类号：
C23C1435
IPC分类号：
代理机构：
隆天国际知识产权代理有限公司 72003
代理人：
李昕巍;赵根喜
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2014-08-20 | 授权 | 授权 |
| 2017-06-09 | 专利权的终止 | 未缴年费专利权终止 号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101725764934 IPC(主分类):C23C 14/35 专利号:ZL2014201973297 申请日:20140422 授权公告日:20140820 终止日期:20160422 |