磁控溅射靶

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN200920350081.2

申请日：

2009-12-29

公开(公告)号：

CN201634757U

公开(公告)日：

2010-11-17

发明(设计)人：

周颖刘丽华

申请人：

申请人地址：

110168 辽宁省沈阳市浑南新区新源街一号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002

代理人：

白振宇

法律状态：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-04-18	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101331927311 IPC(主分类):C23C 14/35 专利号:ZL2009203500812 变更事项:专利权人变更前:中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司变更后:中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司变更事项:地址变更前:110168 辽宁省沈阳市浑南新区新源街一号变更后:110197 辽宁省沈阳市浑南新区新源街1号
2010-11-17	授权	授权
2012-10-03	避免重复授权放弃专利权	避免重复授权放弃专利权号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101454339978 IPC(主分类):C23C 14/35 专利号:ZL2009203500812 申请日:20091229 授权公告日:20101117 放弃生效日:20091229

共 50 条

[1]

一种磁控溅射靶 [P].

周颖 ;

刘丽华 .

中国专利 :CN102108490A ,2011-06-29

[2]

磁控溅射靶 [P].

王君久 ;

陈国华 ;

祝世国 .

中国专利 :CN202865323U ,2013-04-10

[3]

磁控溅射靶 [P].

刘洋 ;

汪振南 ;

见东伟 ;

杨永雷 .

中国专利 :CN210104059U ,2020-02-21

[4]

一种磁控溅射靶材、磁控溅射靶及磁控溅射设备 [P].

魏钰 ;

宋博韬 ;

成军 ;

刘宁 .

中国专利 :CN205934012U ,2017-02-08

[5]

内装式磁控溅射靶 [P].

熊剑辉 .

中国专利 :CN201512577U ,2010-06-23

[6]

同轴磁控溅射靶 [P].

倪振中 .

中国专利 :CN2159398Y ,1994-03-23

[7]

磁控溅射靶罩 [P].

申屠江民 ;

祝宇 ;

张平 ;

乐卫文 .

中国专利 :CN206408287U ,2017-08-15

[8]

磁控溅射靶 [P].

刘洋 ;

汪振南 ;

见东伟 ;

杨永雷 .

中国专利 :CN111621754A ,2020-09-04

[9]

矩形平面磁控溅射靶材及磁控溅射靶装置 [P].

李晨光 .

中国专利 :CN203782228U ,2014-08-20

[10]

磁控溅射靶 [P].

裴绍凯 .

中国专利 :CN101956170A ,2011-01-26

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