磁控溅射靶

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201220439653.6

申请日：

2012-08-30

公开(公告)号：

CN202865323U

公开(公告)日：

2013-04-10

发明(设计)人：

王君久陈国华祝世国

申请人：

申请人地址：

102602 北京市大兴区榆垡工业区榆昌路8号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

北京中海智圣知识产权代理有限公司 11282

代理人：

李奎书

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-09-16	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20120830 授权公告日:20130410
2013-04-10	授权	授权

共 50 条

[1]

一种磁控溅射靶材、磁控溅射靶及磁控溅射设备 [P].

魏钰 ;

宋博韬 ;

成军 ;

刘宁 .

中国专利 :CN205934012U ,2017-02-08

[2]

磁控溅射靶 [P].

周颖 ;

刘丽华 .

中国专利 :CN201634757U ,2010-11-17

[3]

磁控溅射靶 [P].

刘洋 ;

汪振南 ;

见东伟 ;

杨永雷 .

中国专利 :CN210104059U ,2020-02-21

[4]

一种磁控溅射靶 [P].

缪同群 ;

谢圣鸣 .

中国专利 :CN220393888U ,2024-01-26

[5]

同轴磁控溅射靶 [P].

倪振中 .

中国专利 :CN2159398Y ,1994-03-23

[6]

磁控溅射靶罩 [P].

申屠江民 ;

祝宇 ;

张平 ;

乐卫文 .

中国专利 :CN206408287U ,2017-08-15

[7]

磁控溅射靶 [P].

刘洋 ;

汪振南 ;

见东伟 ;

杨永雷 .

中国专利 :CN111621754A ,2020-09-04

[8]

矩形平面磁控溅射靶材及磁控溅射靶装置 [P].

李晨光 .

中国专利 :CN203782228U ,2014-08-20

[9]

磁控溅射靶 [P].

裴绍凯 .

中国专利 :CN101956170A ,2011-01-26

[10]

磁控溅射靶 [P].

马磊 ;

李子云 ;

张浙军 .

中国专利 :CN201506829U ,2010-06-16

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