磁控溅射靶

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910304378.X

申请日：

2009-07-15

公开(公告)号：

CN101956170A

公开(公告)日：

2011-01-26

发明(设计)人：

裴绍凯

申请人：

申请人地址：

518109 广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

代理人：

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-01-26	公开	公开
2016-09-07	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101677712234 IPC(主分类):C23C 14/35 专利号:ZL200910304378X 申请日:20090715 授权公告日:20131211 终止日期:20150715
2013-12-11	授权	授权
2012-03-14	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101198509707 IPC(主分类):C23C 14/35 专利申请号:200910304378X 申请日:20090715

共 50 条

[1]

磁控溅射靶 [P].

刘洋 ;

汪振南 ;

见东伟 ;

杨永雷 .

中国专利 :CN111621754A ,2020-09-04

[2]

磁控溅射靶 [P].

王君久 ;

陈国华 ;

祝世国 .

中国专利 :CN202865323U ,2013-04-10

[3]

磁控溅射靶 [P].

周颖 ;

刘丽华 .

中国专利 :CN201634757U ,2010-11-17

[4]

磁控溅射靶 [P].

刘洋 ;

汪振南 ;

见东伟 ;

杨永雷 .

中国专利 :CN210104059U ,2020-02-21

[5]

磁控溅射靶 [P].

马磊 ;

李子云 ;

张浙军 .

中国专利 :CN201506829U ,2010-06-16

[6]

磁控溅射靶及采用该磁控溅射靶的磁控溅射装置 [P].

裴绍凯 .

中国专利 :CN101988189A ,2011-03-23

[7]

一种磁控溅射靶材、磁控溅射靶及磁控溅射设备 [P].

魏钰 ;

宋博韬 ;

成军 ;

刘宁 .

中国专利 :CN205934012U ,2017-02-08

[8]

磁控溅射靶材 [P].

姚力军 ;

相原俊夫 ;

大岩一彦 ;

潘杰 ;

王学泽 ;

钟伟华 .

中国专利 :CN202576553U ,2012-12-05

[9]

同轴磁控溅射靶 [P].

倪振中 .

中国专利 :CN2159398Y ,1994-03-23

[10]

磁控溅射靶罩 [P].

申屠江民 ;

祝宇 ;

张平 ;

乐卫文 .

中国专利 :CN108239760A ,2018-07-03

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