矩形平面磁控溅射靶材及磁控溅射靶装置

被引：0

申请号：

CN202122619750.5

申请日：

2021-10-29

公开(公告)号：

CN216192676U

公开(公告)日：

2022-04-05

发明(设计)人：

孔伟华

申请人：

申请人地址：

221200 江苏省徐州市睢宁县双沟镇空港经济开发区临空大道与安澜大道交叉口

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

南京佰腾智信知识产权代理事务所(普通合伙) 32509

代理人：

黄杭飞

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-04-05	授权	授权

共 50 条

[1]

矩形平面磁控溅射靶材及磁控溅射靶装置 [P].

李晨光 .

中国专利 :CN203782228U ,2014-08-20

[2]

一种磁控溅射靶材、磁控溅射靶及磁控溅射设备 [P].

魏钰 ;

宋博韬 ;

成军 ;

刘宁 .

中国专利 :CN205934012U ,2017-02-08

[3]

磁控溅射靶材及磁控溅射装置 [P].

叶飞 ;

王金 ;

余义 .

中国专利 :CN223201906U ,2025-08-08

[4]

磁控溅射靶材及磁控溅射装置 [P].

李晨光 .

中国专利 :CN204022932U ,2014-12-17

[5]

磁控溅射靶材 [P].

姚力军 ;

相原俊夫 ;

大岩一彦 ;

潘杰 ;

王学泽 ;

钟伟华 .

中国专利 :CN202576553U ,2012-12-05

[6]

磁控溅射靶材和磁控溅射装置 [P].

胡小波 .

中国专利 :CN110129755A ,2019-08-16

[7]

磁控溅射靶及采用该磁控溅射靶的磁控溅射装置 [P].

裴绍凯 .

中国专利 :CN101988189A ,2011-03-23

[8]

磁控溅射靶 [P].

王君久 ;

陈国华 ;

祝世国 .

中国专利 :CN202865323U ,2013-04-10

[9]

磁控溅射靶 [P].

周颖 ;

刘丽华 .

中国专利 :CN201634757U ,2010-11-17

[10]

磁控溅射靶 [P].

刘洋 ;

汪振南 ;

见东伟 ;

杨永雷 .

中国专利 :CN210104059U ,2020-02-21

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