一种磁控溅射设备靶材

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201621481155.2

申请日：

2016-12-30

公开(公告)号：

CN206376000U

公开(公告)日：

2017-08-04

发明(设计)人：

毛成飞洪耀张民井曹瑞丰郭丰高裕弟孙剑

申请人：

申请人地址：

277000 山东省枣庄市高新区互联网小镇15号楼322号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250

代理人：

张建纲

法律状态：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-11-13	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C23C 14/35 变更事项:专利权人变更前:枣庄维信诺电子科技有限公司变更后:枣庄睿诺电子科技有限公司变更事项:地址变更前:277000 山东省枣庄市高新区互联网小镇15号楼322号变更后:277000 山东省枣庄市高新区复元三路3168号
2017-08-04	授权	授权

共 50 条

[1]

一种靶材安装结构、磁控溅射设备及磁控溅射方法 [P].

卢静 .

中国专利 :CN112899627B ,2021-06-04

[2]

靶材打磨装置和磁控溅射设备 [P].

范贵林 ;

任嘉乐 ;

刘杰 ;

林维乐 ;

陈国栋 .

中国专利 :CN223235961U ,2025-08-19

[3]

一种磁控溅射靶材、磁控溅射靶及磁控溅射设备 [P].

魏钰 ;

宋博韬 ;

成军 ;

刘宁 .

中国专利 :CN205934012U ,2017-02-08

[4]

磁控溅射旋转靶材 [P].

黄勇彪 ;

林文宝 .

中国专利 :CN204224696U ,2015-03-25

[5]

一种磁控溅射设备靶材的打磨装置 [P].

冀杨洲 ;

黄金 ;

杨立友 ;

王继磊 ;

鲍少娟 ;

师海峰 ;

郝伟杰 ;

杨泽奇 ;

高英杰 ;

许利群 ;

李文敏 .

中国专利 :CN218427462U ,2023-02-03

[6]

一种磁控溅射设备靶材的打磨装置 [P].

黄昭仁 ;

褚陈伟 ;

焦娟娟 .

中国专利 :CN221185835U ,2024-06-21

[7]

一种磁控溅射设备及其阴极靶材组件 [P].

彭柱根 ;

伍能 ;

罗洪娜 .

中国专利 :CN204474752U ,2015-07-15

[8]

一种磁控溅射用靶材 [P].

武瑞军 ;

田富 .

中国专利 :CN202347088U ,2012-07-25

[9]

一种靶材冷却背板及磁控溅射镀膜设备 [P].

姚力军 ;

潘杰 ;

边逸军 ;

王学泽 ;

龚祖光 .

中国专利 :CN212925153U ,2021-04-09

[10]

一种磁控溅射镀膜设备的靶材冷却背板 [P].

任文斌 ;

代绍明 .

中国专利 :CN223189248U ,2025-08-05

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