一种磁控溅射设备靶材的打磨装置

被引：0

申请号：

CN202222516536.1

申请日：

2022-09-22

公开(公告)号：

CN218427462U

公开(公告)日：

2023-02-03

发明(设计)人：

冀杨洲黄金杨立友王继磊鲍少娟师海峰郝伟杰杨泽奇高英杰许利群李文敏

申请人：

申请人地址：

030600 山西省晋中市山西综改示范区晋中开发区新能源汽车园区广安东街533号

IPC主分类号：

B24B1900

IPC分类号：

B24B4106 B24B4100 B24B4102 B24B4722

代理机构：

山西晋扬知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 14125

代理人：

张学元

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2023-02-03	授权	授权

共 50 条

[1]

靶材打磨装置和磁控溅射设备 [P].

范贵林 ;

任嘉乐 ;

刘杰 ;

林维乐 ;

陈国栋 .

中国专利 :CN223235961U ,2025-08-19

[2]

一种磁控溅射设备靶材的打磨装置 [P].

黄昭仁 ;

褚陈伟 ;

焦娟娟 .

中国专利 :CN221185835U ,2024-06-21

[3]

一种磁控溅射设备靶材 [P].

毛成飞 ;

洪耀 ;

张民井 ;

曹瑞丰 ;

郭丰 ;

高裕弟 ;

孙剑 .

中国专利 :CN206376000U ,2017-08-04

[4]

一种磁控溅射传动装置及磁控溅射设备 [P].

曹峻峰 ;

张伟建 ;

王星辰 ;

狄贺 ;

凡伟伟 ;

陆黎华 .

中国专利 :CN220300836U ,2024-01-05

[5]

一种磁控溅射靶材、磁控溅射靶及磁控溅射设备 [P].

魏钰 ;

宋博韬 ;

成军 ;

刘宁 .

中国专利 :CN205934012U ,2017-02-08

[6]

磁控溅射旋转靶材 [P].

黄勇彪 ;

林文宝 .

中国专利 :CN204224696U ,2015-03-25

[7]

一种靶材安装结构、磁控溅射设备及磁控溅射方法 [P].

卢静 .

中国专利 :CN112899627B ,2021-06-04

[8]

一种磁控溅射用靶材 [P].

武瑞军 ;

田富 .

中国专利 :CN202347088U ,2012-07-25

[9]

一种靶材、磁控溅射装置及溅射方法、溅射薄膜 [P].

苏同上 ;

王东方 ;

王庆贺 ;

闫梁臣 .

中国专利 :CN109161863A ,2019-01-08

[10]

旋转靶材及磁控溅射装置 [P].

任丹丹 ;

朱成顺 ;

蒋雷 .

中国专利 :CN212894948U ,2021-04-06

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