一种磁控溅射设备及其阴极靶材组件

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN201520151396.X
申请日
2015-03-17
公开(公告)号
CN204474752U
公开(公告)日
2015-07-15
发明(设计)人
彭柱根 伍能 罗洪娜
申请人
申请人地址
570125 海南省海口市龙华区滨海大道103号财富广场20层
IPC主分类号
C23C1435
IPC分类号
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
李海建
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
磁控溅射阴极靶材的密封结构 [P]. 
陈诚 ;
邵帅 ;
刘西宁 .
中国专利 :CN203080058U ,2013-07-24
[2]
一种磁控溅射设备靶材 [P]. 
毛成飞 ;
洪耀 ;
张民井 ;
曹瑞丰 ;
郭丰 ;
高裕弟 ;
孙剑 .
中国专利 :CN206376000U ,2017-08-04
[3]
磁控溅射阴极靶材的密封结构 [P]. 
陈诚 ;
邵帅 ;
刘西宁 .
中国专利 :CN103060766A ,2013-04-24
[4]
一种靶材安装结构、磁控溅射设备及磁控溅射方法 [P]. 
卢静 .
中国专利 :CN112899627B ,2021-06-04
[5]
一种高利用率低成本的平面阴极靶材、磁控溅射设备 [P]. 
徐伯永 .
中国专利 :CN223176185U ,2025-08-01
[6]
一种阴极体组件、磁控溅射阴极及磁控溅射装置 [P]. 
梅艳慧 .
中国专利 :CN208649457U ,2019-03-26
[7]
一种阴极体组件、磁控溅射阴极及磁控溅射装置 [P]. 
梅艳慧 .
中国专利 :CN110714186A ,2020-01-21
[8]
一种磁控溅射设备的阴极冷却装置 [P]. 
杨继泽 ;
刘万学 ;
张兵 ;
王巍 ;
程明辉 ;
左腾 ;
徐柏章 ;
曲爽 .
中国专利 :CN201530858U ,2010-07-21
[9]
靶材组件结构和磁控溅射系统 [P]. 
姚力军 ;
潘杰 ;
相原俊夫 ;
大岩一彦 ;
王学泽 ;
吴剑波 .
中国专利 :CN105755437A ,2016-07-13
[10]
一种用于磁控溅射的阴极靶 [P]. 
杨兆方 ;
宁卫 .
中国专利 :CN2072086U ,1991-02-27