磁控溅射阴极靶材的密封结构

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310035566.3

申请日：

2013-01-30

公开(公告)号：

CN103060766A

公开(公告)日：

2013-04-24

发明(设计)人：

陈诚邵帅刘西宁

申请人：

申请人地址：

233010 安徽省蚌埠市高新技术产业开发区长明路377号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

蚌埠鼎力专利商标事务所有限公司 34102

代理人：

王琪

法律状态：

专利申请权、专利权的转移

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-04-12	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101749943010 IPC(主分类):C23C 14/35 专利号:ZL2013100355663 登记生效日:20170323 变更事项:专利权人变更前权利人:安徽省蚌埠华益导电膜玻璃有限公司变更后权利人:安徽方兴光电新材料科技有限公司变更事项:地址变更前权利人:233010 安徽省蚌埠市高新技术产业开发区长明路377号变更后权利人:233010 安徽省蚌埠市高新区黄山大道北侧
2014-10-22	授权	授权
2013-05-29	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101461519058 IPC(主分类):C23C 14/35 专利申请号:2013100355663 申请日:20130130
2013-04-24	公开	公开

共 50 条

[1]

磁控溅射阴极靶材的密封结构 [P].

陈诚 ;

邵帅 ;

刘西宁 .

中国专利 :CN203080058U ,2013-07-24

[2]

磁控溅射旋转靶材 [P].

黄勇彪 ;

林文宝 .

中国专利 :CN204224696U ,2015-03-25

[3]

一种磁控溅射设备及其阴极靶材组件 [P].

彭柱根 ;

伍能 ;

罗洪娜 .

中国专利 :CN204474752U ,2015-07-15

[4]

一种磁控溅射镀膜阴极靶结构 [P].

张雨 ;

唐睿 ;

贲素东 ;

顾峰 ;

苏曹兵 ;

松田光也 ;

陈贤生 .

中国专利 :CN118726921A ,2024-10-01

[5]

靶材组件结构和磁控溅射系统 [P].

姚力军 ;

潘杰 ;

相原俊夫 ;

大岩一彦 ;

王学泽 ;

吴剑波 .

中国专利 :CN105755437A ,2016-07-13

[6]

真空磁控溅射用旋转阴极靶 [P].

肖世文 ;

黄建威 ;

肖盛荣 .

中国专利 :CN203320120U ,2013-12-04

[7]

磁控溅射圆柱靶的靶芯结构 [P].

万光辉 ;

梁君 ;

平杰 .

中国专利 :CN203807550U ,2014-09-03

[8]

用于超高真空系统的磁控溅射阴极靶 [P].

李新化 ;

邱凯 ;

尹志军 ;

钟飞 ;

陈家荣 .

中国专利 :CN101161855A ,2008-04-16

[9]

一种用于磁控溅射的阴极靶 [P].

杨兆方 ;

宁卫 .

中国专利 :CN2072086U ,1991-02-27

[10]

磁控溅射系统的旋转阴极 [P].

D.T.克劳利 ;

M.L.尼尔 .

中国专利 :CN103917690A ,2014-07-09

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