一种磁控溅射设备的阴极冷却装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN200920094604.1

申请日：

2009-10-29

公开(公告)号：

CN201530858U

公开(公告)日：

2010-07-21

发明(设计)人：

杨继泽刘万学张兵王巍程明辉左腾徐柏章曲爽

申请人：

申请人地址：

136001 吉林省四平市烟厂路1118号

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

H01J3702 H01J3734 H01L3118

代理机构：

吉林省长春市新时代专利商标代理有限公司 22204

代理人：

石岱

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-07-21	授权	授权
2019-11-22	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20091029 授权公告日:20100721

共 50 条

[1]

一种磁控溅射阴极装置及磁控溅射设备 [P].

张永胜 ;

解传佳 ;

周振国 ;

武瑞军 ;

彭孝龙 ;

莫超超 .

中国专利 :CN115537747B ,2024-04-23

[2]

一种磁控溅射阴极装置及磁控溅射设备 [P].

张永胜 ;

解传佳 ;

周振国 ;

武瑞军 ;

彭孝龙 ;

莫超超 .

中国专利 :CN115537747A ,2022-12-30

[3]

一种磁控溅射传动装置及磁控溅射设备 [P].

曹峻峰 ;

张伟建 ;

王星辰 ;

狄贺 ;

凡伟伟 ;

陆黎华 .

中国专利 :CN220300836U ,2024-01-05

[4]

一种磁控溅射设备的溅射靶 [P].

李聪 ;

潘振伟 ;

曲佳佳 ;

陈玲 ;

李靖 .

中国专利 :CN212713736U ,2021-03-16

[5]

磁控溅射设备及其阴极装置 [P].

王正安 .

中国专利 :CN207918946U ,2018-09-28

[6]

一种磁控溅射设备及其阴极靶材组件 [P].

彭柱根 ;

伍能 ;

罗洪娜 .

中国专利 :CN204474752U ,2015-07-15

[7]

磁控溅射反应腔室的冷却组件及其磁控溅射设备 [P].

常青 ;

李冰 ;

边国栋 .

中国专利 :CN209890728U ,2020-01-03

[8]

一种薄膜溅射设备靶极冷却铜背板冷却装置 [P].

周文彬 ;

刘幼海 ;

刘吉人 .

中国专利 :CN202730222U ,2013-02-13

[9]

曲面磁控溅射阴极、闭合磁场涂层磁控溅射设备 [P].

郎文昌 .

中国专利 :CN207958489U ,2018-10-12

[10]

磁控溅射阴极装置、磁控溅射设备及镀膜方法 [P].

解传佳 ;

於刘民 ;

潘俊杰 ;

罗金豪 ;

赵贤贵 ;

吴其涛 .

中国专利 :CN119194385A ,2024-12-27

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