磁控溅射用镶嵌靶材

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专利类型
实用新型
申请号
CN201520046570.4
申请日
2015-01-23
公开(公告)号
CN204474747U
公开(公告)日
2015-07-15
发明(设计)人
宋爱谋 钟小亮
申请人
申请人地址
255100 山东省淄博市文昌湖旅游度假区商家镇
IPC主分类号
C23C1435
IPC分类号
代理机构
青岛发思特专利商标代理有限公司 37212
代理人
马俊荣
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
磁控溅射旋转靶材 [P]. 
黄勇彪 ;
林文宝 .
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[2]
大型磁控溅射ITO靶材 [P]. 
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王守坤 ;
郭会斌 .
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[3]
一种磁控溅射用靶材 [P]. 
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田富 .
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[4]
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彭春超 ;
何保军 ;
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[5]
旋转靶材及磁控溅射装置 [P]. 
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[6]
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[7]
镶嵌式溅射靶材 [P]. 
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[8]
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[9]
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[10]
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