磁控溅射用靶材中心防污染阳极

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202420871040.2

申请日：

2024-04-25

公开(公告)号：

CN222700397U

公开(公告)日：

2025-04-01

发明(设计)人：

齐卫冲

申请人：

长沙元戎科技有限责任公司

申请人地址：

410000 湖南省长沙市浏阳经济技术开发区湘台路18号长沙E中心一期B2栋1层103号房

IPC主分类号：

C23C14/35

IPC分类号：

代理机构：

长沙东熠云天知识产权代理事务所(普通合伙) 43274

代理人：

邹晨阳

法律状态：

授权

国省代码：

安徽省宣城市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-04-01	授权	授权

共 50 条

[1]

防污染超高真空磁控溅射镀膜装置 [P].

周细应 ;

刘延辉 ;

李培耀 ;

钱士强 .

中国专利 :CN200992574Y ,2007-12-19

[2]

磁控溅射用镶嵌靶材 [P].

宋爱谋 ;

钟小亮 .

中国专利 :CN204474747U ,2015-07-15

[3]

移动防污染靶 [P].

王先荣 ;

刘玉魁 ;

杨建斌 ;

张文瑞 ;

柏树 .

中国专利 :CN201438158U ,2010-04-14

[4]

磁控溅射旋转靶材 [P].

黄勇彪 ;

林文宝 .

中国专利 :CN204224696U ,2015-03-25

[5]

大型磁控溅射ITO靶材 [P].

刘晓伟 ;

王守坤 ;

郭会斌 .

中国专利 :CN203295593U ,2013-11-20

[6]

一种磁控溅射用靶材 [P].

武瑞军 ;

田富 .

中国专利 :CN202347088U ,2012-07-25

[7]

磁控溅射镀膜用的靶材组成及磁控溅射镀膜装置 [P].

李长春 ;

蒙峻 ;

焦纪强 ;

罗成 ;

魏宁斐 ;

刘建龙 ;

姚鹏 .

中国专利 :CN121065643A ,2025-12-05

[8]

磁控溅射平面靶材屏蔽罩 [P].

彭春超 ;

何保军 ;

赵跃林 ;

高文波 .

中国专利 :CN202989274U ,2013-06-12

[9]

旋转靶材及磁控溅射装置 [P].

任丹丹 ;

朱成顺 ;

蒋雷 .

中国专利 :CN212894948U ,2021-04-06

[10]

绑定式磁控溅射旋转靶材 [P].

徐从康 .

中国专利 :CN205473965U ,2016-08-17

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