通过防护处理的磁控溅射圆柱靶

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN200820123702.9

申请日：

2008-11-10

公开(公告)号：

CN201309962Y

公开(公告)日：

2009-09-16

发明(设计)人：

王智建陈志涛刘建民秦和军丁朋磊李雪峰

申请人：

申请人地址：

253000山东省德州市经济开发区太阳谷大道·皇明日月坛大厦北区一楼东首

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

北京三高永信知识产权代理有限责任公司

代理人：

何文彬

法律状态：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-11-03	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101036786605 IPC(主分类):C23C 14/35 专利号:ZL2008201237029 变更事项:专利权人变更前:皇明太阳能集团有限公司变更后:皇明太阳能股份有限公司变更事项:地址变更前:253000 山东省德州市经济开发区太阳谷大道·皇明日月坛大厦北区一楼东首变更后:253000 山东省德州市经济开发区太阳谷大道·皇明日月坛大厦北区一楼东首
2014-01-08	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101559926891 IPC(主分类):C23C 14/35 专利号:ZL2008201237029 申请日:20081110 授权公告日:20090916 终止日期:20121110
2009-09-16	授权	授权

共 50 条

[1]

磁控溅射圆柱靶 [P].

蔡新明 ;

柯伟 ;

吴旭林 ;

张化明 ;

韩文敏 .

中国专利 :CN202369634U ,2012-08-08

[2]

磁控溅射圆柱靶及磁控溅射镀膜设备 [P].

罗金豪 ;

解传佳 ;

潘俊杰 ;

赵贤贵 .

中国专利 :CN222119368U ,2024-12-06

[3]

磁控溅射圆柱靶的靶芯结构 [P].

万光辉 ;

梁君 ;

平杰 .

中国专利 :CN203807550U ,2014-09-03

[4]

一种磁控溅射圆柱靶 [P].

李建斌 ;

王智建 ;

张明贵 ;

陈革 ;

张好勇 ;

隗方基 ;

章其初 .

中国专利 :CN201206165Y ,2009-03-11

[5]

一种新型磁控溅射圆柱靶 [P].

王宇 ;

张强 .

中国专利 :CN201778105U ,2011-03-30

[6]

磁控溅射旋转靶 [P].

肖世文 .

中国专利 :CN203741407U ,2014-07-30

[7]

新型磁控溅射旋转圆柱N型硅靶 [P].

孙巍泉 ;

鲁旗 ;

朱琳 ;

傅斌 .

中国专利 :CN216107170U ,2022-03-22

[8]

一种磁控溅射圆柱靶遮蔽装置及磁控溅射镀膜机 [P].

夏伟 ;

沈聚丰 ;

马玉升 ;

李龙哲 ;

朱显君 .

中国专利 :CN222250949U ,2024-12-27

[9]

磁控溅射圆柱靶的两级密封装置 [P].

梁伟 ;

陈培专 ;

李仁龙 ;

魏昌华 ;

高翔 .

中国专利 :CN210261966U ,2020-04-07

[10]

磁控溅射旋转靶材 [P].

黄勇彪 ;

林文宝 .

中国专利 :CN204224696U ,2015-03-25

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