一种便于更换的镀膜磁控溅射平面靶

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202320912168.4

申请日：

2023-04-21

公开(公告)号：

CN220579372U

公开(公告)日：

2024-03-12

发明(设计)人：

徐浩王慧明黄俊李伟魏玉飞

申请人：

长利玻璃洪湖有限公司

申请人地址：

430000 湖北省武汉市经济技术开发区新滩新区白斧池路特1号

IPC主分类号：

C23C14/35

IPC分类号：

代理机构：

武汉江楚智汇知识产权代理事务所(普通合伙) 42228

代理人：

姚宏博

法律状态：

授权

国省代码：

安徽省宣城市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-03-12	授权	授权

共 50 条

[1]

磁控溅射圆柱靶及磁控溅射镀膜设备 [P].

罗金豪 ;

解传佳 ;

潘俊杰 ;

赵贤贵 .

中国专利 :CN222119368U ,2024-12-06

[2]

用于磁控溅射平面靶镀膜设备的可调靶基距装置 [P].

刘高水 ;

周志文 ;

李民英 .

中国专利 :CN202558928U ,2012-11-28

[3]

一种磁控溅射镀膜磁性靶材 [P].

周其刚 ;

李宪民 ;

戴慧敏 .

中国专利 :CN214782106U ,2021-11-19

[4]

一种磁控溅射镀膜用的平面阴极 [P].

郭爱云 ;

赵灿东 ;

周学卿 ;

黄定平 .

中国专利 :CN204959025U ,2016-01-13

[5]

一种平面磁控溅射镀膜平移机构 [P].

张兵 ;

罗德华 ;

王伟 ;

邵家满 ;

王寅 .

中国专利 :CN203866381U ,2014-10-08

[6]

一种具有辅助靶的磁控溅射镀膜装置 [P].

周征华 ;

夏伟 ;

李花 ;

朱显君 ;

沈聚丰 ;

李龙哲 .

中国专利 :CN218146912U ,2022-12-27

[7]

一种磁控溅射镀膜玻璃机的旋转靶 [P].

江维 .

中国专利 :CN204982042U ,2016-01-20

[8]

一种磁控溅射镀膜机的旋转靶 [P].

宋宇 ;

江维 ;

熊建 ;

全强 .

中国专利 :CN207294879U ,2018-05-01

[9]

磁控溅射平面靶材屏蔽罩 [P].

彭春超 ;

何保军 ;

赵跃林 ;

高文波 .

中国专利 :CN202989274U ,2013-06-12

[10]

一种镀膜机的磁控溅射矩形靶 [P].

丁进金 .

中国专利 :CN205590794U ,2016-09-21

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