用于磁控溅射平面靶镀膜设备的可调靶基距装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210009984.0

申请日：

2012-01-13

公开(公告)号：

CN102517556A

公开(公告)日：

2012-06-27

发明(设计)人：

刘高水周志文李民英

申请人：

申请人地址：

523718 广东省东莞市塘厦镇田心工业区

IPC主分类号：

C23C1435

IPC分类号：

代理机构：

北京连城创新知识产权代理有限公司 11254

代理人：

刘伍堂

法律状态：

发明专利申请公布后的驳回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-06-11	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101701786374 IPC(主分类):C23C 14/35 专利申请号:2012100099840 申请公布日:20120627
2012-09-05	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101320543635 IPC(主分类):C23C 14/35 专利申请号:2012100099840 申请日:20120113
2012-06-27	公开	公开

共 50 条

[1]

用于磁控溅射平面靶镀膜设备的可调靶基距装置 [P].

刘高水 ;

周志文 ;

李民英 .

中国专利 :CN202558928U ,2012-11-28

[2]

磁控溅射镀膜用的靶材组成及磁控溅射镀膜装置 [P].

李长春 ;

蒙峻 ;

焦纪强 ;

罗成 ;

魏宁斐 ;

刘建龙 ;

姚鹏 .

中国专利 :CN121065643A ,2025-12-05

[3]

对磁控溅射中旋转靶材进行基距调整的装置 [P].

梁伟 ;

陈培专 ;

李仁龙 ;

魏昌华 ;

高翔 .

中国专利 :CN210176943U ,2020-03-24

[4]

一种靶磁控溅射镀膜机 [P].

宋永宾 ;

王鹏 ;

宋欣怡 .

中国专利 :CN118685744A ,2024-09-24

[5]

一种靶磁控溅射镀膜机 [P].

宋永宾 ;

王鹏 ;

宋欣怡 .

中国专利 :CN118685744B ,2025-03-21

[6]

分区多靶磁控溅射设备 [P].

刘玮 ;

陈强 ;

王守国 .

中国专利 :CN203411601U ,2014-01-29

[7]

用于粉体颗粒表面镀膜的对靶磁控溅射装置 [P].

曹瑞军 ;

林晨光 ;

林中坤 .

中国专利 :CN202401126U ,2012-08-29

[8]

一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备 [P].

朱世元 ;

高鹤 ;

潘朝刚 ;

吴桂桃 ;

柯绍锴 .

中国专利 :CN118007079A ,2024-05-10

[9]

一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备 [P].

朱世元 ;

高鹤 ;

潘朝刚 ;

吴桂桃 ;

柯绍锴 .

中国专利 :CN118007079B ,2024-09-13

[10]

一种靶基距可调的真空镀膜设备 [P].

胡冀 ;

占兵 ;

周家维 .

中国专利 :CN221895109U ,2024-10-25

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