一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202410149986.2

申请日：

2024-02-01

公开(公告)号：

CN118007079B

公开(公告)日：

2024-09-13

发明(设计)人：

朱世元高鹤潘朝刚吴桂桃柯绍锴

申请人：

金耀真空设备（中山）有限公司

申请人地址：

528400 广东省中山市板芙镇智科路3号中南高科板芙智能装备制造项目12栋2单元1层

IPC主分类号：

C23C14/35

IPC分类号：

C23C14/54

代理机构：

中山市科创专利代理有限公司 44211

代理人：

尹文涛

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-05-28	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/35申请日:20240201
2024-05-10	公开	公开
2024-09-13	授权	授权

共 50 条

[1]

一种可调靶基距和磁基距阴极镀膜设备 [P].

朱世元 ;

高鹤 ;

潘朝刚 ;

吴桂桃 ;

柯绍锴 .

中国专利 :CN118007079A ,2024-05-10

[2]

用于磁控溅射平面靶镀膜设备的可调靶基距装置 [P].

刘高水 ;

周志文 ;

李民英 .

中国专利 :CN202558928U ,2012-11-28

[3]

用于磁控溅射平面靶镀膜设备的可调靶基距装置 [P].

刘高水 ;

周志文 ;

李民英 .

中国专利 :CN102517556A ,2012-06-27

[4]

一种镀膜设备的靶基距调节结构 [P].

张奇龙 ;

李伟 .

中国专利 :CN119932494A ,2025-05-06

[5]

一种旋转阴极及靶基距在线调节方法 [P].

王随心 ;

刘刚 ;

成秋云 ;

雷睿 .

中国专利 :CN115354284A ,2022-11-18

[6]

一种在线调节靶基距的装置 [P].

张奇龙 ;

李伟 .

中国专利 :CN221501224U ,2024-08-09

[7]

一种阴极靶结构及镀膜设备 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN220977127U ,2024-05-17

[8]

对磁控溅射中旋转靶材进行基距调整的装置 [P].

梁伟 ;

陈培专 ;

李仁龙 ;

魏昌华 ;

高翔 .

中国专利 :CN210176943U ,2020-03-24

[9]

一种阴极镀膜设备 [P].

吴华夏 ;

孟昭红 ;

沈旭东 ;

方卫 ;

于晨晨 ;

陈爱民 .

中国专利 :CN201785480U ,2011-04-06

[10]

一种可调式平面阴极结构及其镀膜设备 [P].

匡国庆 .

中国专利 :CN216074015U ,2022-03-18

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