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曝光装置、曝光方法及元件制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN200910163695.4
申请日
:
2005-06-09
公开(公告)号
:
CN101639631A
公开(公告)日
:
2010-02-03
发明(设计)人
:
长坂博之
奥山猛
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都千代田区丸之内三丁目2番3号
IPC主分类号
:
G03F720
IPC分类号
:
代理机构
:
北京三友知识产权代理有限公司
代理人
:
杨俊波
法律状态
:
专利权的终止
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-05-28
专利权的终止
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20050609 授权公告日:20120718 终止日期:20200609
2012-07-18
授权
授权
2010-03-24
实质审查的生效
实质审查的生效
2010-02-03
公开
公开
共 50 条
[1]
曝光装置、曝光方法、及元件制造方法
[P].
荒井大
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
荒井大
.
中国专利
:CN105652603A
,2016-06-08
[2]
曝光装置、曝光方法及元件制造方法
[P].
长坂博之
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
长坂博之
;
奥山猛
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
奥山猛
.
中国专利
:CN1981365A
,2007-06-13
[3]
曝光装置、曝光方法、及元件制造方法
[P].
荒井大
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
荒井大
.
中国专利
:CN105301918A
,2016-02-03
[4]
曝光装置、曝光方法、及元件制造方法
[P].
荒井大
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
荒井大
.
中国专利
:CN105487351A
,2016-04-13
[5]
曝光装置、曝光方法及元件制造方法
[P].
西井康文
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
西井康文
.
中国专利
:CN1954408B
,2007-04-25
[6]
曝光装置及元件制造方法
[P].
长坂博之
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
长坂博之
;
奥山猛
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
奥山猛
.
中国专利
:CN102736446B
,2012-10-17
[7]
曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法
[P].
依田安史
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
依田安史
.
中国专利
:CN108919609A
,2018-11-30
[8]
曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法
[P].
依田安史
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
依田安史
.
中国专利
:CN104919371B
,2015-09-16
[9]
曝光装置、曝光方法、元件制造方法及维护方法
[P].
白石健一
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
白石健一
.
中国专利
:CN103439863B
,2013-12-11
[10]
曝光方法、曝光装置及元件制造方法
[P].
奈良圭
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
奈良圭
.
中国专利
:CN1983037B
,2007-06-20
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