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曝光装置及元件制造方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201210184248.9
申请日：
2005-06-09
公开(公告)号：
CN102736446B
公开(公告)日：
2012-10-17
发明(设计)人：
长坂博之
奥山猛
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
北京三友知识产权代理有限公司 11127
代理人：
杨俊波
法律状态：
专利权的终止
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-05-28 | 专利权的终止 | 未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20050609 授权公告日:20140917 终止日期:20200609 |
| 2012-12-12 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 号牌文件序号:101363521324 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2012101842489 申请日:20050609 号牌文件类型代码:1604 |
| 2014-09-17 | 授权 | 授权 |
| 2012-10-17 | 公开 | 公开 |