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用于光刻冲洗液的含氟组合物、光刻冲洗液和形成光刻胶图案的光刻方法
被引:0
申请号
:
CN202211016307.1
申请日
:
2022-08-24
公开(公告)号
:
CN115322839A
公开(公告)日
:
2022-11-11
发明(设计)人
:
李永斌
申请人
:
申请人地址
:
730900 甘肃省白银市白银区兰包路333号(08)5幢1-01(孵化器基地)科研一号楼306室
IPC主分类号
:
C11D106
IPC分类号
:
C11D330
G03F742
G03F700
C07C59135
代理机构
:
北京中秩新创知识产权代理有限公司 16124
代理人
:
褚战星
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-11-29
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C11D 1/06 申请日:20220824
2022-11-11
公开
公开
共 50 条
[1]
一种防倒塌的光刻胶冲洗液和形成光刻胶图案的光刻方法
[P].
马晓明
论文数:
0
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机构:
苏州润邦半导体材料科技有限公司
苏州润邦半导体材料科技有限公司
马晓明
;
陈玉
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机构:
苏州润邦半导体材料科技有限公司
苏州润邦半导体材料科技有限公司
陈玉
;
杨槐
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苏州润邦半导体材料科技有限公司
苏州润邦半导体材料科技有限公司
杨槐
;
童颖佳
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机构:
苏州润邦半导体材料科技有限公司
苏州润邦半导体材料科技有限公司
童颖佳
;
李文武
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机构:
苏州润邦半导体材料科技有限公司
苏州润邦半导体材料科技有限公司
李文武
;
高清
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机构:
苏州润邦半导体材料科技有限公司
苏州润邦半导体材料科技有限公司
高清
.
中国专利
:CN120122400A
,2025-06-10
[2]
一种防倒塌的光刻胶冲洗液和形成光刻胶图案的光刻方法
[P].
马晓明
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机构:
苏州润邦半导体材料科技有限公司
苏州润邦半导体材料科技有限公司
马晓明
;
陈玉
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机构:
苏州润邦半导体材料科技有限公司
苏州润邦半导体材料科技有限公司
陈玉
;
杨槐
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苏州润邦半导体材料科技有限公司
苏州润邦半导体材料科技有限公司
杨槐
;
童颖佳
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苏州润邦半导体材料科技有限公司
苏州润邦半导体材料科技有限公司
童颖佳
;
李文武
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苏州润邦半导体材料科技有限公司
苏州润邦半导体材料科技有限公司
李文武
;
高清
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机构:
苏州润邦半导体材料科技有限公司
苏州润邦半导体材料科技有限公司
高清
.
中国专利
:CN120122400B
,2025-07-18
[3]
一种防倒塌的光刻胶冲洗液和形成光刻胶图案的光刻方法
[P].
马晓明
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机构:
苏州润邦半导体材料科技有限公司
苏州润邦半导体材料科技有限公司
马晓明
;
杨槐
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苏州润邦半导体材料科技有限公司
苏州润邦半导体材料科技有限公司
杨槐
;
陈玉
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苏州润邦半导体材料科技有限公司
苏州润邦半导体材料科技有限公司
陈玉
;
高清
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苏州润邦半导体材料科技有限公司
苏州润邦半导体材料科技有限公司
高清
.
中国专利
:CN121028475A
,2025-11-28
[4]
光刻胶组合物和形成光刻图案的方法
[P].
Y·C·裴
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Y·C·裴
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T·卡多拉西亚
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T·卡多拉西亚
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孙纪斌
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孙纪斌
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D·J·阿里奥拉
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D·J·阿里奥拉
;
K·A·弗雷泽
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K·A·弗雷泽
.
中国专利
:CN102445848A
,2012-05-09
[5]
光刻胶组合物和形成光刻图案的方法
[P].
朴钟根
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朴钟根
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C·N·李
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C·N·李
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C·安德斯
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C·安德斯
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D·王
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D·王
.
中国专利
:CN103576458A
,2014-02-12
[6]
光刻用冲洗液
[P].
越山淳
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越山淳
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胁屋和正
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胁屋和正
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金子文武
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金子文武
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宫本敦史
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宫本敦史
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泽田佳宏
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泽田佳宏
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田岛秀和
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田岛秀和
.
中国专利
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,2007-04-11
[7]
光刻用冲洗液
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越山淳
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越山淳
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胁屋和正
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胁屋和正
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金子文武
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泽田佳宏
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泽田佳宏
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田岛秀和
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田岛秀和
.
中国专利
:CN102591160B
,2012-07-18
[8]
光刻用冲洗液
[P].
越山淳
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越山淳
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胁屋和正
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胁屋和正
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金子文武
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金子文武
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宫本敦史
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宫本敦史
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田岛秀和
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田岛秀和
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泽田佳宏
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泽田佳宏
.
中国专利
:CN1947066B
,2007-04-11
[9]
负性光刻胶组合物和形成光刻胶图案的方法
[P].
王晓伟
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王晓伟
.
中国专利
:CN112731764A
,2021-04-30
[10]
光刻设备和用于形成光刻胶图案的方法
[P].
柳龙焕
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柳龙焕
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朴商鎭
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朴商鎭
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李沙罗
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李沙罗
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朱成培
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朱成培
.
中国专利
:CN115639725A
,2023-01-24
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