一种防倒塌的光刻胶冲洗液和形成光刻胶图案的光刻方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510607413.4

申请日：

2025-05-13

公开(公告)号：

CN120122400A

公开(公告)日：

2025-06-10

发明(设计)人：

马晓明陈玉杨槐童颖佳李文武高清

申请人：

苏州润邦半导体材料科技有限公司

申请人地址：

215634 江苏省苏州市张家港保税区港澳路15号传感产业园一楼北侧106A室

IPC主分类号：

G03F7/42

IPC分类号：

G03F7/00

代理机构：

苏州市中南伟业知识产权代理事务所(普通合伙) 32257

代理人：

王双双

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

江苏省苏州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-06-27	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/42申请日:20250513
2025-07-18	授权	授权
2025-06-10	公开	公开

共 50 条

[1]

一种防倒塌的光刻胶冲洗液和形成光刻胶图案的光刻方法 [P].

马晓明 ;

陈玉 ;

杨槐 ;

童颖佳 ;

李文武 ;

高清 .

中国专利 :CN120122400B ,2025-07-18

[2]

一种防倒塌的光刻胶冲洗液和形成光刻胶图案的光刻方法 [P].

马晓明 ;

杨槐 ;

陈玉 ;

高清 .

中国专利 :CN121028475A ,2025-11-28

[3]

用于光刻冲洗液的含氟组合物、光刻冲洗液和形成光刻胶图案的光刻方法 [P].

李永斌 .

中国专利 :CN115322839A ,2022-11-11

[4]

光刻胶、光刻胶组合产品及光刻胶图案化的方法 [P].

徐宏 ;

何向明 ;

刘天棋 .

中国专利 :CN115903376B ,2025-01-14

[5]

负性光刻胶组合物和形成光刻胶图案的方法 [P].

王晓伟 .

中国专利 :CN112731764A ,2021-04-30

[6]

光刻胶及形成光刻图案的方法 [P].

钱晓春 ;

胡春青 ;

马丽君 .

中国专利 :CN111061126A ,2020-04-24

[7]

光刻胶图案的形成方法和光刻胶层合体 [P].

山崎晃义 ;

本池直人 ;

川名大助 ;

佐藤和史 .

中国专利 :CN1424626A ,2003-06-18

[8]

耐热正性光刻胶以及形成光刻胶图案的方法 [P].

何珂 ;

戈士勇 .

中国专利 :CN120762253A ,2025-10-10

[9]

形成光刻胶图案的方法 [P].

汪钉崇 ;

蓝受龙 .

中国专利 :CN101140421B ,2008-03-12

[10]

形成光刻胶图案的方法 [P].

苏萌 ;

杨明 ;

宋延林 .

中国专利 :CN114815500A ,2022-07-29

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