用于化学机械平坦化的多步抛光液

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200510071796.0

申请日：

2005-02-22

公开(公告)号：

CN1324105C

公开(公告)日：

2006-01-18

发明(设计)人：

刘振东 J·匡西 R·E·施密特 T·M·托马斯

申请人：

申请人地址：

美国特拉华

IPC主分类号：

C09K314

IPC分类号：

H01L21304

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司

代理人：

陈剑华

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-07-04	授权	授权
2006-03-08	实质审查的生效	实质审查的生效
2006-01-18	公开	公开

共 50 条

[1]

用于抛光半导体晶片的化学机械抛光液 [P].

马新胜 ;

黄凯毅 ;

高玮 ;

杨景辉 ;

孔凡滔 .

中国专利 :CN102533123A ,2012-07-04

[2]

用于钨和钛的化学机械平坦化的组合物及方法 [P].

T·梅斯 ;

B·L·穆勒 ;

C·余 .

中国专利 :CN1676563A ,2005-10-05

[3]

一种用于蓝宝石化学机械平坦化的抛光液 [P].

潘国顺 ;

徐莉 ;

邹春莉 ;

史晓磊 ;

周艳 ;

罗桂海 ;

龚桦 .

中国专利 :CN104513628A ,2015-04-15

[4]

用于化学机械平坦化的复合催化剂及其制备方法和抛光液 [P].

杨勍 ;

邹海良 ;

周慧慧 .

中国专利 :CN114433159A ,2022-05-06

[5]

一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液 [P].

姚颖 ;

潘依君 ;

荆建芬 ;

杜玲曦 ;

蔡鑫元 ;

宋凯 ;

杨俊雅 ;

张建 ;

王春梅 ;

王雨春 .

中国专利 :CN108250973A ,2018-07-06

[6]

一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液 [P].

姚颖 ;

荆建芬 ;

蔡鑫元 ;

邱腾飞 ;

宋凯 .

中国专利 :CN106928858A ,2017-07-07

[7]

一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液 [P].

潘依君 ;

荆建芬 ;

姚颖 ;

杜玲曦 ;

杨俊雅 ;

张建 ;

蔡鑫元 ;

宋凯 ;

王雨春 .

中国专利 :CN108250977B ,2018-07-06

[8]

一种用于阻挡层平坦化的化学机械抛光液 [P].

蔡鑫元 ;

姚颖 ;

荆建芬 ;

潘依君 ;

杜玲曦 ;

宋凯 ;

张建 ;

杨俊雅 ;

王雨春 .

中国专利 :CN108250972B ,2018-07-06

[9]

一种用于氧化镍薄膜化学机械平坦化的纳米抛光液及应用 [P].

张楷亮 ;

张涛峰 ;

王芳 ;

尹立国 ;

张扬 ;

李福龙 ;

胡智翔 .

中国专利 :CN102408835A ,2012-04-11

[10]

化学机械抛光液 [P].

杨云忠 .

中国专利 :CN109929457A ,2019-06-25

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