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集成电路器件及其形成方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201911358161.7
申请日
:
2019-12-25
公开(公告)号
:
CN111384010B
公开(公告)日
:
2020-07-07
发明(设计)人
:
郑淑蓉
潘国龙
李佩璇
黄见翎
赖昱嘉
郭庭豪
蔡豪益
余振华
申请人
:
申请人地址
:
中国台湾新竹
IPC主分类号
:
H01L2340
IPC分类号
:
H01L23485
H01L2150
代理机构
:
北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409
代理人
:
章社杲;李伟
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-07-07
公开
公开
2020-07-31
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 23/40 申请日:20191225
2021-12-14
授权
授权
共 50 条
[1]
集成电路器件及其形成方法
[P].
邱文智
论文数:
0
引用数:
0
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0
邱文智
;
余振华
论文数:
0
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余振华
;
林士庭
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林士庭
;
卢思维
论文数:
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0
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卢思维
.
中国专利
:CN113809018A
,2021-12-17
[2]
集成电路器件及其形成方法
[P].
余振华
论文数:
0
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0
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0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
余振华
;
黄子芸
论文数:
0
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0
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0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
黄子芸
;
何明哲
论文数:
0
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0
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0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
何明哲
;
郭宏瑞
论文数:
0
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0
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0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
郭宏瑞
.
中国专利
:CN112242381B
,2024-08-27
[3]
集成电路器件及其形成方法
[P].
余振华
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0
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0
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余振华
;
黄子芸
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黄子芸
;
何明哲
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何明哲
;
郭宏瑞
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郭宏瑞
.
中国专利
:CN112242381A
,2021-01-19
[4]
集成电路器件及其形成方法
[P].
邱文智
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
邱文智
;
余振华
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0
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
余振华
;
林士庭
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
林士庭
;
卢思维
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
卢思维
.
中国专利
:CN113809018B
,2024-09-06
[5]
集成电路器件及其形成方法
[P].
余振华
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0
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余振华
;
卢思维
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卢思维
.
中国专利
:CN112018065A
,2020-12-01
[6]
集成电路、集成电路器件及其形成方法
[P].
包家豪
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包家豪
;
陈稚轩
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陈稚轩
;
洪连嵘
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洪连嵘
;
林士豪
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林士豪
.
中国专利
:CN111261630B
,2020-06-09
[7]
集成电路器件及其形成方法
[P].
朴判济
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
朴判济
;
金珍泰
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
金珍泰
;
徐康一
论文数:
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
徐康一
.
韩国专利
:CN119521763A
,2025-02-25
[8]
集成电路器件及其形成方法
[P].
江国诚
论文数:
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江国诚
;
朱熙宁
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朱熙宁
;
程冠伦
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程冠伦
;
王志豪
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王志豪
.
中国专利
:CN110729244A
,2020-01-24
[9]
集成电路器件及其形成方法
[P].
李家庆
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李家庆
;
吴仲强
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吴仲强
;
邱诗航
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邱诗航
;
童宣瑜
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童宣瑜
;
李达元
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李达元
.
中国专利
:CN112510090A
,2021-03-16
[10]
集成电路器件及其形成方法
[P].
金珍泰
论文数:
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
金珍泰
;
朴判济
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
朴判济
;
徐康一
论文数:
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
徐康一
.
韩国专利
:CN119730374A
,2025-03-28
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