半导体器件及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200610119057.9
申请日
2006-12-04
公开(公告)号
CN101197323A
公开(公告)日
2008-06-11
发明(设计)人
宁先捷
申请人
申请人地址
201203上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L218238
IPC分类号
H01L21336 H01L27092 H01L2978
代理机构
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人
逯长明
法律状态
专利申请权、专利权的转移
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
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朴松源 .
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[2]
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[3]
半导体器件及其制造方法 [P]. 
吴汉明 ;
宁先捷 .
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[4]
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[5]
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高关且 ;
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[6]
半导体器件金属连接孔的制造方法和半导体器件 [P]. 
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[7]
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[8]
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曹启鹏 ;
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[9]
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[10]
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