用于非晶硅电池沉积的等离子体气相沉积设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201220536151.5

申请日：

2012-10-19

公开(公告)号：

CN202898537U

公开(公告)日：

2013-04-24

发明(设计)人：

陈五奎雷晓全王斌

申请人：

申请人地址：

715200 陕西省渭南市澄城县醍醐村东拓日太阳城

IPC主分类号：

C23C1650

IPC分类号：

C23C1624 H01L3118

代理机构：

北京汉昊知识产权代理事务所(普通合伙) 11370

代理人：

孟海娟

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-04-24	授权	授权

共 50 条

[1]

用于非晶硅电池沉积的等离子体气相沉积设备与方法 [P].

陈五奎 ;

雷晓全 ;

王斌 .

中国专利 :CN103774116A ,2014-05-07

[2]

等离子体气相沉积设备 [P].

张斌 ;

李王俊 .

中国专利 :CN213680874U ,2021-07-13

[3]

非晶硅薄膜等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

陈五奎 ;

李文江 ;

任陈平 ;

刘强 ;

黄振华 .

中国专利 :CN201801589U ,2011-04-20

[4]

等离子体气相沉积设备 [P].

刘祥 ;

周东平 ;

张晓 .

中国专利 :CN119640240B ,2025-05-13

[5]

等离子体气相沉积设备 [P].

刘祥 ;

周东平 ;

张晓 .

中国专利 :CN119640240A ,2025-03-18

[6]

等离子体气相沉积设备 [P].

王凤明 ;

李王俊 ;

陈晨 .

中国专利 :CN111705307A ,2020-09-25

[7]

等离子体气相沉积镀膜设备 [P].

黄章华 .

中国专利 :CN216192696U ,2022-04-05

[8]

等离子体气相沉积用工件固定治具及等离子体气相沉积设备 [P].

柏洋 ;

吴其涛 .

中国专利 :CN209555369U ,2019-10-29

[9]

等离子体气相沉积方法 [P].

聂佳相 ;

康芸 ;

杨瑞鹏 .

中国专利 :CN101736307A ,2010-06-16

[10]

等离子体气相沉积装置用背板及等离子体气相沉积装置 [P].

韩乔楠 ;

罗阳 ;

贺雄 .

中国专利 :CN203284463U ,2013-11-13

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