非晶硅薄膜等离子体增强化学气相沉积设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201020540460.0

申请日：

2010-09-25

公开(公告)号：

CN201801589U

公开(公告)日：

2011-04-20

发明(设计)人：

陈五奎李文江任陈平刘强黄振华

申请人：

申请人地址：

518000 广东省深圳市南山区侨香路6060香年广场A栋8楼

IPC主分类号：

C23C1644

IPC分类号：

C23C1624

代理机构：

深圳中一专利商标事务所 44237

代理人：

张全文

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-04-20	授权	授权
2020-10-27	专利权的终止	专利权有效期届满 IPC(主分类):C23C 16/44 申请日:20100925 授权公告日:20110420

共 50 条

[1]

等离子体增强化学气相沉积装置 [P].

陈金元 ;

刘传生 .

中国专利 :CN101974738A ,2011-02-16

[2]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

姜杉 ;

李建东 ;

杨志永 .

中国专利 :CN201587981U ,2010-09-22

[3]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

欧阳亮 .

中国专利 :CN120231033A ,2025-07-01

[4]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

吴斌 .

中国专利 :CN222935510U ,2025-06-03

[5]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

洪性喆 ;

李万镐 .

中国专利 :CN104769156A ,2015-07-08

[6]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

刘红义 .

中国专利 :CN102534568A ,2012-07-04

[7]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

左凯峰 ;

季徐华 ;

王根江 .

中国专利 :CN201560236U ,2010-08-25

[8]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

郑友山 ;

杨斌 .

中国专利 :CN103866281A ,2014-06-18

[9]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

张金中 .

中国专利 :CN202246858U ,2012-05-30

[10]

等离子体增强化学气相沉积设备 [P].

陈有生 ;

张印奇 ;

刘传生 ;

董家伟 .

中国专利 :CN222499365U ,2025-02-18

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