对准方法以及对准装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201480053028.X

申请日：

2014-05-14

公开(公告)号：

CN105593396A

公开(公告)日：

2016-05-18

发明(设计)人：

山根幸男石井博田中广树

申请人：

申请人地址：

日本新潟县

IPC主分类号：

C23C1404

IPC分类号：

G01B1100 G03F900 H01L21027

代理机构：

北京三友知识产权代理有限公司 11127

代理人：

李辉;黄纶伟

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-11-16	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101687367323 IPC(主分类):C23C 14/04 专利申请号:201480053028X 申请日:20140514
2018-05-01	授权	授权
2016-05-18	公开	公开

共 50 条

[1]

对准方法以及对准装置 [P].

江泽光晴 .

日本专利 :CN120958165A ,2025-11-14

[2]

对准装置、成膜装置以及对准方法 [P].

神田宽 ;

谷和宪 ;

长沼义人 .

日本专利 :CN119317731A ,2025-01-14

[3]

对准装置、光刻机以及对准方法 [P].

邢奕飞 ;

高安 ;

孙建超 .

中国专利 :CN114690595B ,2025-05-16

[4]

对准装置、工件承载设备以及对准方法 [P].

麦考林·N·丹尼尔 ;

威廉·T·维弗 ;

查理斯·T·卡尔森 .

中国专利 :CN103415919B ,2013-11-27

[5]

对准装置、光刻机以及对准方法 [P].

邢奕飞 ;

高安 ;

孙建超 .

中国专利 :CN114690595A ,2022-07-01

[6]

曝光装置用的对准装置以及对准标记 [P].

桥本和重 .

中国专利 :CN103858208B ,2014-06-11

[7]

成膜装置、成膜方法、对准装置以及对准方法 [P].

泷泽毅 ;

川畑奉代 .

日本专利 :CN119317730A ,2025-01-14

[8]

电子部件的对准装置以及对准方法 [P].

横山千広 .

中国专利 :CN101959397B ,2011-01-26

[9]

图案形成装置及图案形成方法、以及对准装置及对准方法 [P].

川越理史 ;

増市干雄 ;

上野博之 ;

上野美佳 ;

谷口和隆 ;

正司和大 ;

芝藤弥生 ;

田中哲夫 ;

陶山武史 .

中国专利 :CN104007611A ,2014-08-27

[10]

对准装置、蒸镀装置、电子器件的制造装置以及对准方法 [P].

姬路敏明 .

中国专利 :CN111326461A ,2020-06-23

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