基板处理装置和气体导入板

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202010192194.5
申请日
2018-03-29
公开(公告)号
CN111370285A
公开(公告)日
2020-07-03
发明(设计)人
小川裕之 大久保智也 清水昭贵
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H01J3732
IPC分类号
H01L2167
代理机构
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
刘新宇
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
等离子体处理装置和气体导入方法 [P]. 
宇田真代 ;
鹤田学 ;
丰田启吾 .
中国专利 :CN112863987A ,2021-05-28
[2]
等离子体处理装置和气体导入机构 [P]. 
藤野丰 ;
小松智仁 ;
池田太郎 ;
中入淳 ;
和久津岳生 .
中国专利 :CN107393798A ,2017-11-24
[3]
等离子体处理装置和气体喷淋头 [P]. 
佐佐木芳彦 ;
町山弥 ;
南雅人 .
中国专利 :CN108987234B ,2018-12-11
[4]
基板处理装置和气体供给方法 [P]. 
田岛直树 ;
土山正志 .
日本专利 :CN120824215A ,2025-10-21
[5]
基片处理装置、基片处理方法和气体供给组件 [P]. 
大森贵史 ;
田中诚治 ;
天野健次 .
日本专利 :CN117373889A ,2024-01-09
[6]
基板处理装置用气体导入管 [P]. 
岛田宽哲 .
中国专利 :CN305448153S ,2019-11-19
[7]
基板处理装置用气体导入管 [P]. 
村田慧 ;
森田慎也 .
中国专利 :CN305531563S ,2020-01-03
[8]
基板处理装置用气体导入管 [P]. 
村田慧 .
日本专利 :CN309392708S ,2025-07-18
[9]
气体供给装置、基板处理装置和气体供给方法 [P]. 
水泽兼悦 .
中国专利 :CN101017771A ,2007-08-15
[10]
基板处理装置和基板处理方法 [P]. 
小川裕之 ;
大久保智也 ;
清水昭贵 .
中国专利 :CN108695133A ,2018-10-23