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基板处理装置和气体导入板
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010192194.5
申请日
:
2018-03-29
公开(公告)号
:
CN111370285A
公开(公告)日
:
2020-07-03
发明(设计)人
:
小川裕之
大久保智也
清水昭贵
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01J3732
IPC分类号
:
H01L2167
代理机构
:
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
:
刘新宇
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-07-03
公开
公开
2020-07-28
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20180329
共 50 条
[1]
等离子体处理装置和气体导入方法
[P].
宇田真代
论文数:
0
引用数:
0
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0
宇田真代
;
鹤田学
论文数:
0
引用数:
0
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0
鹤田学
;
丰田启吾
论文数:
0
引用数:
0
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0
丰田启吾
.
中国专利
:CN112863987A
,2021-05-28
[2]
等离子体处理装置和气体导入机构
[P].
藤野丰
论文数:
0
引用数:
0
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0
藤野丰
;
小松智仁
论文数:
0
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0
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0
小松智仁
;
池田太郎
论文数:
0
引用数:
0
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0
池田太郎
;
中入淳
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
中入淳
;
和久津岳生
论文数:
0
引用数:
0
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0
和久津岳生
.
中国专利
:CN107393798A
,2017-11-24
[3]
等离子体处理装置和气体喷淋头
[P].
佐佐木芳彦
论文数:
0
引用数:
0
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0
佐佐木芳彦
;
町山弥
论文数:
0
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0
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0
町山弥
;
南雅人
论文数:
0
引用数:
0
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0
南雅人
.
中国专利
:CN108987234B
,2018-12-11
[4]
基板处理装置和气体供给方法
[P].
田岛直树
论文数:
0
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
田岛直树
;
土山正志
论文数:
0
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
土山正志
.
日本专利
:CN120824215A
,2025-10-21
[5]
基片处理装置、基片处理方法和气体供给组件
[P].
大森贵史
论文数:
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
大森贵史
;
田中诚治
论文数:
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
田中诚治
;
天野健次
论文数:
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0
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0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
天野健次
.
日本专利
:CN117373889A
,2024-01-09
[6]
基板处理装置用气体导入管
[P].
岛田宽哲
论文数:
0
引用数:
0
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0
岛田宽哲
.
中国专利
:CN305448153S
,2019-11-19
[7]
基板处理装置用气体导入管
[P].
村田慧
论文数:
0
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村田慧
;
森田慎也
论文数:
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引用数:
0
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0
森田慎也
.
中国专利
:CN305531563S
,2020-01-03
[8]
基板处理装置用气体导入管
[P].
村田慧
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
株式会社国际电气
株式会社国际电气
村田慧
.
日本专利
:CN309392708S
,2025-07-18
[9]
气体供给装置、基板处理装置和气体供给方法
[P].
水泽兼悦
论文数:
0
引用数:
0
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0
水泽兼悦
.
中国专利
:CN101017771A
,2007-08-15
[10]
基板处理装置和基板处理方法
[P].
小川裕之
论文数:
0
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0
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小川裕之
;
大久保智也
论文数:
0
引用数:
0
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0
大久保智也
;
清水昭贵
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
清水昭贵
.
中国专利
:CN108695133A
,2018-10-23
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