等离子体处理装置和气体导入方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202011309494.3
申请日
2020-11-20
公开(公告)号
CN112863987A
公开(公告)日
2021-05-28
发明(设计)人
宇田真代 鹤田学 丰田启吾
申请人
申请人地址
日本东京都
IPC主分类号
H01J3732
IPC分类号
代理机构
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
刘新宇;张会华
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
等离子体处理装置和气体导入机构 [P]. 
藤野丰 ;
小松智仁 ;
池田太郎 ;
中入淳 ;
和久津岳生 .
中国专利 :CN107393798A ,2017-11-24
[2]
等离子体处理装置和气体喷淋头 [P]. 
佐佐木芳彦 ;
町山弥 ;
南雅人 .
中国专利 :CN108987234B ,2018-12-11
[3]
等离子体处理用气体、等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P]. 
末田一行 ;
笹仓昌浩 ;
山本凌音 ;
角川舞 .
中国专利 :CN115699264A ,2023-02-03
[4]
处理气体导入机构和等离子体处理装置 [P]. 
釜石贵之 ;
岛村明典 ;
森嶋雅人 .
中国专利 :CN101106070B ,2008-01-16
[5]
处理气体导入机构和等离子体处理装置 [P]. 
釜石贵之 ;
岛村明典 ;
森嶋雅人 .
中国专利 :CN100350569C ,2005-11-23
[6]
等离子体处理装置、等离子体处理方法 [P]. 
舆水地盐 .
中国专利 :CN101908460A ,2010-12-08
[7]
等离子体处理装置、等离子体处理方法 [P]. 
石川拓 ;
户部康弘 .
中国专利 :CN101622698B ,2010-01-06
[8]
等离子体处理装置、等离子体处理方法 [P]. 
大木达也 ;
小泽亘 ;
深泽公博 ;
金谷和博 .
中国专利 :CN102737945B ,2012-10-17
[9]
气体喷嘴和气体喷嘴的制造方法以及等离子体处理装置 [P]. 
野口幸雄 ;
左桥知也 .
中国专利 :CN113165139A ,2021-07-23
[10]
等离子体蚀刻方法、等离子体蚀刻装置、等离子体处理方法及等离子体处理装置 [P]. 
森口尚树 .
中国专利 :CN105103274A ,2015-11-25