用于深紫外光源的光学元件

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202080016486.1

申请日：

2020-02-05

公开(公告)号：

CN113474951A

公开(公告)日：

2021-10-01

发明(设计)人：

S·达斯 E·A·梅森 J·T·梅尔基奥尔

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H01S3034

IPC分类号：

H01S308 H01S3083 H01S3225 C30B2912 C30B3300 G02B1118 H01S3081 H01S30971 H01S323

代理机构：

北京市金杜律师事务所 11256

代理人：

赵林琳;郑振

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-10-26	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01S 3/034 申请日:20200205
2021-10-01	公开	公开

共 50 条

[41]

深紫外物镜及光学系统 [P].

李双 ;

吴巨帅 .

中国专利 :CN119620360A ,2025-03-14

[42]

光学元件的制造方法、光学元件和用于制造光学元件的装置 [P].

米哈伊尔·埃尔德马尼斯 .

中国专利 :CN115698779A ,2023-02-03

[43]

紫外线LED光学元件 [P].

田崎益次 ;

伊东由多 ;

川口武 ;

富泽延行 .

中国专利 :CN115702503A ,2023-02-14

[44]

光学元件及光学元件的制造方法 [P].

郭汉檥 ;

许书豪 ;

吕引栋 .

中国专利 :CN117518303A ,2024-02-06

[45]

光学元件以及光学元件的制造方法 [P].

若林刚守 ;

大井好晴 ;

本间雅彦 ;

南舘正宙 .

中国专利 :CN110462458A ,2019-11-15

[46]

光学元件以及光学元件的制造方法 [P].

和田一启 ;

藤森秀之 .

中国专利 :CN107111008A ,2017-08-29

[47]

用于保护光学器件免受真空紫外光的系统及方法 [P].

M·德斯泰恩 ;

J·萨维 ;

E·布塔伊娃 ;

S·利汉斯基 ;

G·德尔加多 .

中国专利 :CN114667473A ,2022-06-24

[48]

光学元件、制造光学元件的方法和光学镜头 [P].

蒯泽文 ;

阮高梁 ;

诸烨 .

中国专利 :CN111399095A ,2020-07-10

[49]

一种极紫外光学元件表面污染清洗装置及方法 [P].

邓文渊 ;

金春水 ;

姚舜 ;

喻波 ;

靳京城 .

中国专利 :CN106238427A ,2016-12-21

[50]

用于衍射光学元件的折射涂层 [P].

P·A·斯腾伯格 ;

J·K·T·特沃 .

中国专利 :CN109073885A ,2018-12-21

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