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用于深紫外光源的光学元件
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202080016486.1
申请日
:
2020-02-05
公开(公告)号
:
CN113474951A
公开(公告)日
:
2021-10-01
发明(设计)人
:
S·达斯
E·A·梅森
J·T·梅尔基奥尔
申请人
:
申请人地址
:
美国加利福尼亚州
IPC主分类号
:
H01S3034
IPC分类号
:
H01S308
H01S3083
H01S3225
C30B2912
C30B3300
G02B1118
H01S3081
H01S30971
H01S323
代理机构
:
北京市金杜律师事务所 11256
代理人
:
赵林琳;郑振
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-10-26
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01S 3/034 申请日:20200205
2021-10-01
公开
公开
共 50 条
[1]
用于深紫外光源的光学元件
[P].
S·达斯
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
西默有限公司
西默有限公司
S·达斯
;
E·A·梅森
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0
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0
机构:
西默有限公司
西默有限公司
E·A·梅森
;
J·T·梅尔基奥尔
论文数:
0
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0
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0
机构:
西默有限公司
西默有限公司
J·T·梅尔基奥尔
.
美国专利
:CN113474951B
,2024-12-13
[2]
用于极紫外光刻的反射光学元件
[P].
J.韦伯
论文数:
0
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0
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0
J.韦伯
.
中国专利
:CN102782531B
,2012-11-14
[3]
一种紫外光源封装元件
[P].
时军朋
论文数:
0
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时军朋
;
林秋霞
论文数:
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林秋霞
;
黄永特
论文数:
0
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0
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黄永特
;
余长治
论文数:
0
引用数:
0
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0
余长治
.
中国专利
:CN110915006A
,2020-03-24
[4]
用于紫外波长范围的光学元件
[P].
A·帕齐迪斯
论文数:
0
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0
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0
机构:
卡尔蔡司SMT有限责任公司
卡尔蔡司SMT有限责任公司
A·帕齐迪斯
.
德国专利
:CN121175599A
,2025-12-19
[5]
利用外部光学元件的差别紫外光固化
[P].
T·莫拉菲
论文数:
0
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0
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T·莫拉菲
.
中国专利
:CN203792904U
,2014-08-27
[6]
反射光学元件和用于极紫外光刻的光学系统
[P].
D.H.埃姆
论文数:
0
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D.H.埃姆
;
P.休伯
论文数:
0
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P.休伯
;
S.米兰德
论文数:
0
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S.米兰德
;
G.冯布兰肯哈根
论文数:
0
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0
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0
G.冯布兰肯哈根
.
中国专利
:CN103547945B
,2014-01-29
[7]
极紫外光学元件的微环境控制系统
[P].
王魁波
论文数:
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0
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王魁波
;
吴晓斌
论文数:
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吴晓斌
;
罗艳
论文数:
0
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罗艳
;
谢婉露
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谢婉露
;
韩晓泉
论文数:
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韩晓泉
;
沙鹏飞
论文数:
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0
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沙鹏飞
.
中国专利
:CN112255886A
,2021-01-22
[8]
针对极紫外光源的光脉冲生成
[P].
R·W·帕里
论文数:
0
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0
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
R·W·帕里
;
C·J·莱本伯格
论文数:
0
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0
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机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
C·J·莱本伯格
.
:CN110476110B
,2024-05-14
[9]
针对极紫外光源的光脉冲生成
[P].
R·W·帕里
论文数:
0
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0
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R·W·帕里
;
C·J·莱本伯格
论文数:
0
引用数:
0
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0
C·J·莱本伯格
.
中国专利
:CN110476110A
,2019-11-19
[10]
极紫外光刻的光学元件和光学系统及处理这种光学元件的方法
[P].
H.H.P.T.贝克曼
论文数:
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0
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H.H.P.T.贝克曼
;
D.H.埃姆
论文数:
0
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D.H.埃姆
;
J.休布雷格特斯
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J.休布雷格特斯
;
A.J.斯托姆
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A.J.斯托姆
;
T.格雷伯
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T.格雷伯
;
I.阿门特
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0
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I.阿门特
;
D.斯米茨
论文数:
0
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D.斯米茨
;
E.特斯莱特
论文数:
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E.特斯莱特
;
A.库兹尼特索夫
论文数:
0
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0
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0
A.库兹尼特索夫
.
中国专利
:CN105074576A
,2015-11-18
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