一种MOSFET结构及其制造方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201310476449.0
申请日
2013-10-13
公开(公告)号
CN104576376A
公开(公告)日
2015-04-29
发明(设计)人
尹海洲
申请人
申请人地址
100029 北京市朝阳区北土城西路3号
IPC主分类号
H01L21336
IPC分类号
H01L2978 H01L29161
代理机构
北京汉昊知识产权代理事务所(普通合伙) 11370
代理人
朱海波
法律状态
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
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共 50 条
[1]
一种MOSFET结构及其制造方法 [P]. 
李睿 ;
尹海洲 ;
刘云飞 .
中国专利 :CN104576390A ,2015-04-29
[2]
一种MOSFET结构及其制造方法 [P]. 
尹海洲 ;
李睿 .
中国专利 :CN104576338A ,2015-04-29
[3]
一种MOSFET结构及其制造方法 [P]. 
尹海洲 ;
刘云飞 .
中国专利 :CN103606524B ,2014-02-26
[4]
一种MOSFET结构及其制造方法 [P]. 
尹海洲 .
中国专利 :CN104576378B ,2015-04-29
[5]
一种MOSFET结构及其制造方法 [P]. 
尹海洲 ;
张珂珂 .
中国专利 :CN104347707B ,2015-02-11
[6]
一种MOSFET结构及其制造方法 [P]. 
何颖 .
中国专利 :CN106298542A ,2017-01-04
[7]
一种MOSFET结构及其制造方法 [P]. 
尹海洲 .
中国专利 :CN104576379A ,2015-04-29
[8]
一种MOSFET结构及其制造方法 [P]. 
尹海洲 ;
李睿 .
中国专利 :CN104576377A ,2015-04-29
[9]
一种FINFET结构及其制造方法 [P]. 
尹海洲 ;
刘云飞 .
中国专利 :CN104576384A ,2015-04-29
[10]
一种非对称FinFET结构及其制造方法 [P]. 
尹海洲 ;
张珂珂 .
中国专利 :CN104576382B ,2015-04-29